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发明公开
化学机械抛光中用于减少有图案金属凹陷的组合物和方法无效

公开(公告)号：CN1256992A

公开(公告)日：2000-06-21

申请号：CN99120301.1

申请日：1999-09-17

申请人： 西门子公司 , 国际商业机器公司

发明人： C·T·林 , J-F·王 , F·F·雅曼 , R·拉马钱德兰

IPC分类号： B24B1/00 , H01L21/304 , H01L21/465 , C09K13/00

CPC分类号： H01L21/7684 , C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/3212

摘要： 本发明涉及一种在化学机械抛光中用于减少作为工件镶嵌于电介质中的有图案大金属面凹陷的组合物,包括:粘性增加量的增强剂代替含有研磨剂的抛光浆中的去离子水。