发明授权
- 专利标题： 光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法
- 专利标题（英）： Photoresist stripping liquid composition and stripping method for photoresist using photoresist stripping liquid composition
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申请号： CN200410059459.5申请日： 2004-06-28
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公开(公告)号： CN1261827C公开(公告)日： 2006-06-28
- 发明人: 李赫镇 , 金炳默 , 宋仙英 , 洪宪杓
- 申请人： 东友FINE-CHEM株式会社
- 申请人地址： 韩国全罗北道益山市
- 专利权人： 东友FINE-CHEM株式会社
- 当前专利权人： 东友FINE-CHEM株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国全罗北道益山市
- 代理机构： 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理商 丁香兰
- 优先权： 42147/2003 2003.06.26 KR; 42148/2003 2003.06.26 KR
- 主分类号： G03F7/42
- IPC分类号： G03F7/42
摘要：
本发明提供光致抗蚀剂剥离液组合物，该光致抗蚀剂剥离液组合物在半导体元件和液晶显示元件等的制造工艺中，对在湿蚀刻或者干蚀刻工序中发生变质或者固化的光致抗蚀剂，使用浸渍法、喷雾法或者单片方式，在低温、短时间内容易剥离，对暴露于剥离液组合物的下部的金属膜质和氧化膜质不会引起损伤，在后续的工序中，不需要使用像异丙醇、二甲亚砜那样的有机溶剂，仅用水就可进行冲洗。
公开/授权文献
- CN1577111A 光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法 公开/授权日：2005-02-09
IPC分类:
