发明授权
CN1266744C 基板处理装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 基板处理装置
- 专利标题(英): Base plate processing device
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申请号: CN03145454.2申请日: 2003-05-28
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公开(公告)号: CN1266744C公开(公告)日: 2006-07-26
- 发明人: 江头浩司
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 张天安; 郑建晖
- 优先权: 153708/02 2002.05.28 JP
- 主分类号: H01L21/302
- IPC分类号: H01L21/302 ; B08B3/00
摘要:
该基板处理装置是具有转动以适当间隔平行排列的多个基板的转子(45),一边通过上述转子(45)转动基板(W),一边对基板(W)提供药液并进行处理的基板处理装置,上述转子(45)具有至少1个保持上述平行排列的多个基板(W)的边缘的保持部件(95、96、97、98、99)和至少1个对上述基板(W)的边缘提供并保持按压力的按压部件(100),上述按压部件(100)在上述转子(45)静止时和转动时的任一情况下,始终对上述基板(W)的边缘提供按压力,保持在上述基板(W)的边缘和上述各保持部件(95、96、97、98、99)之间不产生偏移。从而,防止基板边缘被削掉,延长保持棒的寿命,并且可以进行药液处理。
公开/授权文献
- CN1462063A 基板处理装置 公开/授权日:2003-12-17
IPC分类: