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    基板处理装置和基板处理方法
    1.
    发明授权
    基板处理装置和基板处理方法 有权

    公开(公告)号：CN108028193B

    公开(公告)日：2022-04-22

    申请号：CN201680056032.0

    申请日：2016-09-29

    申请人： 东京毅力科创株式会社

    发明人： 江头浩司 ,  山下刚秀 ,  本田儀幸 ,  吉田祐希 ,  川渕洋介

    IPC分类号： H01L21/304

    摘要： 在比由处理室(81、201)内的基板保持部(89、204)保持着的基板(W)的端缘靠外侧的位置设置有喷射气体的气体喷射口(74、205)。从气体喷射口(74、205)喷射来的气体形成在沿着由基板保持部保持着的基板的第1面(表面)的方向上流动的气体的流动。随着气体的流动，升华了的升华性物质的气体和气体所含有的异物被从基板的附近去除。气体也作为从加热部(88、203)向基板的传热介质起作用。

    批次形成装置、基板处理系统、批次形成方法及存储介质
    2.
    发明授权
    批次形成装置、基板处理系统、批次形成方法及存储介质 有权

    公开(公告)号：CN100543958C

    公开(公告)日：2009-09-23

    申请号：CN200610164634.6

    申请日：2006-10-27

    申请人： 东京毅力科创株式会社

    发明人： 上川裕二 ,  江头浩司

    IPC分类号： H01L21/677

    CPC分类号： H01L21/67739 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67763 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67781 ,  Y10S414/138

    摘要： 一种批次形成装置，能够通过组合从以层叠状态分别容纳多片基板的多个载体中取出的多片基板来形成基板的批次。批次形成装置包括：从各个载体中取出并搬送容纳在各载体中的多片基板的基板搬送机构；对于由此基板搬送机构搬送的多片基板，通过使基板一片片地相对于其它基板移动，来改变这些多片基板的相互的位置关系的基板相互位置关系变更机构；由用此基板相互位置关系变更机构改变相互的位置关系且由基板搬送机构进一步搬送的多片基板来形成批次的批次形成机构。基板处理系统包括：这种批次形成装置；和对由该批次形成装置形成的基板的批次进行处理的基板处理装置。

    批次形成装置、基板处理系统、批次形成方法及存储介质
    4.
    发明公开
    批次形成装置、基板处理系统、批次形成方法及存储介质 有权

    公开(公告)号：CN1983548A

    公开(公告)日：2007-06-20

    申请号：CN200610164634.6

    申请日：2006-10-27

    申请人： 东京毅力科创株式会社

    发明人： 上川裕二 ,  江头浩司

    IPC分类号： H01L21/677

    CPC分类号： H01L21/67739 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67763 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67781 ,  Y10S414/138

    摘要： 一种批次形成装置，能够通过组合从以层叠状态分别容纳多片基板的多个载体中取出的多片基板来形成基板的批次。批次形成装置包括：从各个载体中取出并搬送容纳在各载体中的多片基板的基板搬送机构；对于由此基板搬送机构搬送的多片基板，通过使基板一片片地相对于其它基板移动，来改变这些多片基板的相互的位置关系的基板相互位置关系变更机构；由用此基板相互位置关系变更机构改变相互的位置关系且由基板搬送机构进一步搬送的多片基板来形成批次的批次形成机构。基板处理系统包括：这种批次形成装置；和对由该批次形成装置形成的基板的批次进行处理的基板处理装置。

    液处理装置
    5.
    发明公开
    液处理装置 有权

    公开(公告)号：CN103311156A

    公开(公告)日：2013-09-18

    申请号：CN201310075317.7

    申请日：2013-03-08

    申请人： 东京毅力科创株式会社

    发明人： 江头浩司

    IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/687

    CPC分类号： B08B3/024 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68792

    摘要： 本发明提供一种防止在基板上形成没有进行液处理的未处理区域的液处理装置。本发明的液处理装置（10）包括：基板保持部（21）；以及升降构件（50），其以相对于基板保持部升降自如的方式设置。基板保持部包括：保持基座（22）；以及第1卡合构件（31）和第2卡合构件（32），其移动自如地设置在保持基座上并在与基板（W）的周缘部相卡合的卡合位置和释放基板的释放位置之间移动，在与第1卡合构件连结的第1抵接部（55）同升降构件的上侧被抵接部（51）相抵接的情况下，第1卡合构件位于卡合位置。在与第2卡合构件连结的第2抵接部（56）同升降构件的下侧被抵接部（52）相抵接的情况下，第2卡合构件位于卡合位置。

    超声波清洗装置、超声波清洗方法
    6.
    发明公开
    超声波清洗装置、超声波清洗方法 失效

    公开(公告)号：CN102029273A

    公开(公告)日：2011-04-27

    申请号：CN201010502243.7

    申请日：2010-09-28

    申请人： 东京毅力科创株式会社

    发明人： 上川裕二 ,  稻富弘朗 ,  山本秀幸 ,  小宫洋司 ,  江头浩司

    IPC分类号： B08B3/12

    CPC分类号： B08B3/12 ,  B08B3/048 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67313 ,  H01L21/67757

    摘要： 本发明提供一种超声波清洗装置、超声波清洗方法以及记录有用于执行该超声波清洗方法的计算机程序的记录介质。该超声波清洗装置包括：清洗槽，其用于积存清洗液；被处理体保持装置，其被设置成能够插入到清洗槽内，保持被处理体而将被处理体浸渍于清洗液中；振子，其设置在清洗槽的底部；超声波振荡装置，其使振子产生超声波振动。在清洗槽内设有保持被处理体的侧部保持构件。另外，被处理体保持装置利用驱动装置向侧方移动。控制装置以下述方式控制驱动装置：在将被处理体保持于侧部保持构件之后，使被处理体保持装置向侧方移动，并使振子产生超声波振动，使来自振子的超声波振动传播到被处理体。

    液处理装置
    7.
    发明授权
    液处理装置 有权

    公开(公告)号：CN103311155B

    公开(公告)日：2016-12-28

    申请号：CN201310075206.6

    申请日：2013-03-08

    申请人： 东京毅力科创株式会社

    发明人： 江头浩司

    IPC分类号： H01L21/67

    CPC分类号： B08B3/024 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

    摘要： 本发明提供一种能够以低运行成本来防止基板的挠曲和破损的液处理装置。本发明的液处理装置（10）包括：基板保持部（21），其能旋转，用于与基板（W）分开地从下方水平保持基板（W）；以及旋转驱动部（25），其用于驱动基板保持部（21）而使基板保持部（21）旋转。在由基板保持部（21）保持着的基板（W）的上方设有用于朝向基板（W）供给空气的空气供给部（81）。空气供给路径（90）具有用于吸引自空气供给部（81）供给来的空气的吸引口（91），该空气供给路径（90）用于向形成在由基板保持部（21）保持着的基板（W）的下表面与基板保持部（21）之间的基板下方空间（96）供给自吸引口（91）吸引来的空气。

    基板处理装置
    9.
    发明授权
    基板处理装置 失效

    公开(公告)号：CN1266744C

    公开(公告)日：2006-07-26

    申请号：CN03145454.2

    申请日：2003-05-28

    申请人： 东京毅力科创株式会社

    发明人： 江头浩司

    IPC分类号： H01L21/302 ,  B08B3/00

    CPC分类号： H01L21/68728 ,  B08B3/02 ,  H01L21/673 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68771 ,  Y10S134/902

    摘要： 该基板处理装置是具有转动以适当间隔平行排列的多个基板的转子(45)，一边通过上述转子(45)转动基板(W)，一边对基板(W)提供药液并进行处理的基板处理装置，上述转子(45)具有至少1个保持上述平行排列的多个基板(W)的边缘的保持部件(95、96、97、98、99)和至少1个对上述基板(W)的边缘提供并保持按压力的按压部件(100)，上述按压部件(100)在上述转子(45)静止时和转动时的任一情况下，始终对上述基板(W)的边缘提供按压力，保持在上述基板(W)的边缘和上述各保持部件(95、96、97、98、99)之间不产生偏移。从而，防止基板边缘被削掉，延长保持棒的寿命，并且可以进行药液处理。