发明授权
CN1288102C 部分区域玻璃化的SiO2成形体、其制造方法及用途
失效 - 权利终止
- 专利标题： 部分区域玻璃化的SiO2成形体、其制造方法及用途
- 专利标题（英）： Partial-zone glass SiO2 forming article, producing method and use thereof
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申请号： CN200310121528.6申请日： 2003-12-19
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公开(公告)号： CN1288102C公开(公告)日： 2006-12-06
- 发明人: 弗里茨·施韦特费格 , 阿克塞尔·弗劳恩克内希特 , 延斯·京斯特 , 斯文·恩格勒 , 于尔根·海因里希
- 申请人： 瓦克化学股份公司
- 申请人地址： 德国慕尼黑
- 专利权人： 瓦克化学股份公司
- 当前专利权人： 瓦克化学股份公司
- 当前专利权人地址： 德国慕尼黑
- 代理机构： 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 过晓东
- 优先权： 10260320.0 2002.12.20 DE
- 主分类号： C03B8/00
- IPC分类号： C03B8/00 ; C03B19/00 ; C03B20/00 ; C30B15/00
摘要：
一种制造部分区域或完全玻璃化SiO2成形体的方法，其中无定形、多孔性SiO2成形体是借助于辐射，利用无接触加热而烧结或玻璃化，并避免外来原子对该SiO2成形体造成污染，而且所用辐射是低于1000毫巴的低于大气压的压力下的激光光束。
公开/授权文献
- CN1510001A 部分区域玻璃化的SiO2成形体、其制造方法及用途 公开/授权日：2004-07-07
