发明授权
CN1325697C 蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物制造反射板的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物制造反射板的方法
- 专利标题（英）： Etching agent composition and method for producing reflective plate using the same etching liquid composition
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申请号： CN200310120156.5申请日： 2003-12-09
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公开(公告)号： CN1325697C公开(公告)日： 2007-07-11
- 发明人: 清水寿和 , 景山宪二 , 宫本孝吉 , 藤信秀哉
- 申请人： 关东化学株式会社 , 奥博特瑞克斯株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 关东化学株式会社,奥博特瑞克斯株式会社
- 当前专利权人： 关东化学株式会社,奥博特瑞克斯株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 陈建全
- 优先权： 2002－357724 2002.12.10 JP
- 主分类号： C23F1/16
- IPC分类号： C23F1/16 ; G02F1/1335
摘要：
本发明提供了价格低廉的蚀刻液组合物，其使用单一溶液可以同时蚀刻包含SiO2膜的金属反射层合膜，抑制各膜的侧面腐蚀量并且对于作为光散射层的树脂层没有损伤。即该蚀刻液组合物是用单一溶液同时蚀刻由含有金属反射膜和SiO2膜的2层以上的膜构成的金属反射层合膜的蚀刻液组合物，其由磷酸、硝酸、醋酸、氢氟酸和水配合而成。
公开/授权文献
- CN1506495A 蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物制造反射板的方法 公开/授权日：2004-06-23
IPC分类:
