发明授权
- 专利标题： 涂料组合物、多孔硅质膜、用于制备多孔硅质膜的方法以及半导体装置
- 专利标题（英）： Coating composition, porous siliceous film, method for preparing porous siliceous film, and semiconductor device
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申请号： CN200480011690.5申请日： 2004-03-24
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公开(公告)号： CN1328346C公开(公告)日： 2007-07-25
- 发明人: 青木伦子 , 青木宏幸
- 申请人： AZ电子材料(日本)株式会社
- 申请人地址： 日本国东京都
- 专利权人： AZ电子材料(日本)株式会社
- 当前专利权人： 默克专利有限公司
- 当前专利权人地址： 日本国东京都
- 代理机构： 北京三幸商标专利事务所
- 代理商 刘激扬
- 优先权： 126381/2003 2003.05.01 JP
- 国际申请： PCT/JP2004/004078 2004.03.24
- 国际公布： WO2004/096934 JA 2004.11.11
- 进入国家日期： 2005-10-31
- 主分类号： C09D183/16
- IPC分类号： C09D183/16 ; C01B33/12 ; H01L21/768
摘要：
提供了一种具有高机械强度并且适合用于层间绝缘膜的低介电常数的多孔硅质膜。根据本发明的涂料组合物的特征在于包含：一种有机溶剂和包含在所述的有机溶剂中的1)聚烷基硅氮烷和2)至少一种有机树脂成分，该成分选自于由丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的均聚物和共聚物组成的组，基团-COOH和/或基团-OH被包含在包含于至少一种该有机树脂成分的至少部分侧基中。
公开/授权文献
- CN1780890A 涂料组合物、多孔硅质膜、用于制备多孔硅质膜的方法以及半导体装置 公开/授权日：2006-05-31
IPC分类:
