• 专利标题: 磁记录介质的制造方法和制造设备
  • 专利标题(英): Production method for magnetic recording medium and production device therefor
  • 申请号: CN200480000193.5
    申请日: 2004-03-02
  • 公开(公告)号: CN1328712C
    公开(公告)日: 2007-07-25
  • 发明人: 服部一博高井充诹访孝裕
  • 申请人: TDK股份有限公司
  • 申请人地址: 日本国东京都
  • 专利权人: TDK股份有限公司
  • 当前专利权人: TDK股份有限公司
  • 当前专利权人地址: 日本国东京都
  • 代理机构: 隆天国际知识产权代理有限公司
  • 代理商 经志强; 潘培坤
  • 优先权: 058381/2003 2003.03.05 JP; 101570/2003 2003.04.04 JP
  • 国际申请: PCT/JP2004/002588 2004.03.02
  • 国际公布: WO2004/079725 JA 2004.09.16
  • 进入国家日期: 2004-11-08
  • 主分类号: G11B5/855
  • IPC分类号: G11B5/855
磁记录介质的制造方法和制造设备
摘要:
一种磁记录介质的制造方法和制造设备,能够有效地制造离散型磁记录介质,同时确实防止分隔的记录元件的退化等。磁记录介质的制造设备(40)包括:记录层处理装置(42),用于通过在形成有连续记录层的磁记录介质的中间物(10)中以平面方向的微细间隔形成多个沟槽,将连续记录层分成多个分隔的记录元件;非磁性元件填充装置(48),用于将非磁性元件填充到分隔的记录元件之间的沟槽中;平坦化装置(50),用于使分隔的记录元件和非磁性元件的表面平坦化;保护层形成装置(56),用于在分隔的记录元件和非磁性元件上形成保护层;和真空保持装置(56),用于容纳记录层处理装置(42)、非磁性元件填充装置(48)、平坦化装置(50)和保护层形成装置(52),以使中间物(10)的周围保持于真空条件下。
公开/授权文献
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