发明公开
CN1396493A 应用高能光源制造微型构造的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 应用高能光源制造微型构造的方法
- 专利标题（英）： Method for making miniature structure using high-energy light source
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申请号： CN02105093.7申请日： 2002-02-20
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公开(公告)号： CN1396493A公开(公告)日： 2003-02-12
- 发明人: 李承燮 , 李成根 , 李光哲
- 申请人： 学校法人浦项工科大学校
- 申请人地址： 韩国庆尚北道
- 专利权人： 学校法人浦项工科大学校
- 当前专利权人： 学校法人浦项工科大学校
- 当前专利权人地址： 韩国庆尚北道
- 代理机构： 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 刘兴鹏
- 优先权： 0041122/2001 2001.07.10 KR; 0071691/2001 2001.11.19 KR
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00 ; G03F7/20 ; G03F7/26
摘要：
一种应用X射线制造微型构造的方法，包括以下步骤：选择感光材料的一个部位暴露于高能光源中，该选择暴光步骤通过一个用于限定微型构造的图形的光掩模来完成，以及进行仅使感光材料暴光部分的上部熔化和变形的一个热处理步骤，当感光材料暴光部分的上部被暴露于X射线中时，它受到大约1kJ/cm3－20kJ/cm3的能级的作用。
公开/授权文献
- CN1291274C 应用高能光源制造微型构造的方法 公开/授权日：2006-12-20