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    利用了碳氧间双键的抗蚀剂下层膜形成用组合物
    1.
    发明授权
    利用了碳氧间双键的抗蚀剂下层膜形成用组合物 有权

    公开(公告)号：CN112236720B

    公开(公告)日：2024-08-16

    申请号：CN201980034895.1

    申请日：2019-05-21

    申请人： 日产化学株式会社

    发明人： 德永光 ,  绪方裕斗 ,  桥本圭祐 ,  中岛诚

    IPC分类号： G03F7/11 ,  C08G8/02 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

    摘要： 提供显示高蚀刻耐性、良好的干蚀刻速度比和光学常数，对所谓的高低差基板也被覆性良好，埋入后的膜厚差小，能够形成平坦的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。此外，提供适合于该抗蚀剂下层膜形成用组合物的聚合物的制造方法、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜、以及半导体装置的制造方法。制作一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含碳原子数6～60的芳香族化合物(A)与碳原子数3～60的含氧化合物(B)所具有的碳氧间双键的反应生成物、以及溶剂，上述含氧化合物(B)在一分子中具有1个部分结构：‑CON＜或‑COO‑，上述反应生成物中，上述含氧化合物(B)的1个碳原子连接2个上述芳香族化合物(A)。

    衬底的背侧摩擦减小
    2.
    发明授权
    衬底的背侧摩擦减小 有权

    公开(公告)号：CN111433886B

    公开(公告)日：2024-07-30

    申请号：CN201880077107.2

    申请日：2018-11-13

    申请人： 东京毅力科创株式会社

    发明人： 姜浩英

    IPC分类号： H01L21/02 ,  G03F7/26 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

    摘要： 处理室系统包括被配置成将衬底固定在第一处理室内的衬底安装模块。该系统还包括被配置成将感光膜施加至衬底的正侧表面的第一沉积模块以及被配置成将膜层施加至衬底的背侧表面的第二沉积模块。正侧表面与衬底的背侧表面相反。衬底具有裸露的背侧表面，该裸露的背侧表面具有第一摩擦系数。在衬底的背侧表面上形成膜层。形成在衬底的背侧表面上的膜层具有第二摩擦系数。第二摩擦系数低于第一摩擦系数。

    用于具有含聚(苯乙烯)和聚(甲基丙烯酸甲酯)链段的嵌段共聚物的自组装的具有可调极性的中性刷
    3.
    发明公开
    用于具有含聚(苯乙烯)和聚(甲基丙烯酸甲酯)链段的嵌段共聚物的自组装的具有可调极性的中性刷 审中-公开

    公开(公告)号：CN118302461A

    公开(公告)日：2024-07-05

    申请号：CN202280074905.6

    申请日：2022-11-10

    申请人： 默克专利股份有限公司

    发明人： D·巴斯卡兰 ,  N·康 ,  E·W·恩格

    IPC分类号： C08F220/30 ,  C09D133/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  H01L21/02 ,  C08F8/12

    摘要： 本发明涉及结构(A)的无规共聚物，其包含结构(I)的重复单元、结构(II)的重复单元、两个末端基团R3和R4，其中末端基团R3是结构(IIIa)的结构部分，并且要么是C‑1至C8烷基，要么是结构(III)的结构部分，和末端基团R4是衍生自终止阴离子聚合的结构部分，并且要么选自H、C‑1至C‑8烷基、C‑1至C‑8烷基羰基、C‑1至C‑8三烷基甲硅烷基、C‑1至C‑8二烷基甲硅烷基、C‑1至C‑8单烷基甲硅烷基、硅烷和苄基结构部分，要么是结构(IV)的结构部分，和其中R3和R4二者不能同时分别选自结构(III)的结构部分和结构(IV)的结构部分，和要么R3是结构(III)的结构部分，要么R4是结构(IV)的结构部分。本发明还涉及包含这种共聚物和有机旋转流延溶剂的组合物，以及这种组合物用于形成用于在DSA处理中使用的接枝中性层的用途。#imgabs0#

    一种具有稳态气流输出功能的涂胶显影工艺的腔体
    4.
    发明公开
    一种具有稳态气流输出功能的涂胶显影工艺的腔体 有权

    公开(公告)号：CN118131570A

    公开(公告)日：2024-06-04

    申请号：CN202410290222.5

    申请日：2024-03-14

    申请人： 迈睿捷(南京)半导体科技有限公司

    发明人： 朱海兵 ,  马保记 ,  胡家佳

    IPC分类号： G03F7/16 ,  G03F7/26 ,  B01D46/10 ,  B01D46/76

    摘要： 一种具有稳态气流输出功能的涂胶显影工艺的腔体，属于半导体技术领域，为了解决涂胶显影工艺的腔体不具备均匀分散气流的能力，以及目前的涂胶显影工艺的腔体还不具备临时过滤的能力的问题，发明包括安装板和固定安装在安装板顶面上的气腔，安装板的底面上固定安装有临时过滤室，临时过滤室的下端分别转动安装有启闭组件和翻转过滤组件，临时过滤室的侧壁上固定安装有收集组件，安装板的一侧设置有独立过滤器，第一气管上固定安装有灰尘检测仪，本发明中气流在气腔和安装板上，经过三道分流后，能够持续输出稳态气流，还提供了一种预防措施，当独立过滤器出现故障无法对气流进行正常过滤时，能够实现临时过滤的效果。

    一种涂胶显影机用晶圆缓冲式定位托架
    6.
    发明授权
    一种涂胶显影机用晶圆缓冲式定位托架 有权

    公开(公告)号：CN117612988B

    公开(公告)日：2024-04-05

    申请号：CN202410078999.5

    申请日：2024-01-19

    申请人： 宇弘研科技(苏州)有限公司

    发明人： 安礼余 ,  王定国

    IPC分类号： H01L21/68 ,  H01L21/677 ,  G03F7/26

    摘要： 本发明公开了一种涂胶显影机用晶圆缓冲式定位托架，包括工作仓体；所述工作仓体的内部设置有托架机构；还包括：所述承载平台的左端顶面设置有输送机构；其中，清理机构包含有承载支架，且承载支架的内部后方固定设置有弹性供气囊；其中，托架机构包含有驱动齿轮，且驱动齿轮转动设置于导向滑板的顶面后方。该涂胶显影机用晶圆缓冲式定位托架，通过间歇性旋转的输送旋转盘带动晶圆在输送过程中，由清理机构针对晶圆粘附的浮尘进行清理，而后持续旋转并推送至托架圆盘上，同时工作仓体内部的导向滑板带动定位盘体与托架圆盘在移动时针对晶圆采用柔性连接的缓冲支架对其进行定位，防止在后续的加工过程中发生位移。

    一种控制激光直写设备的出光模块运动的方法及装置
    9.
    发明公开
    一种控制激光直写设备的出光模块运动的方法及装置 审中-实审

    公开(公告)号：CN117192918A

    公开(公告)日：2023-12-08

    申请号：CN202311258169.2

    申请日：2023-09-27

    申请人： 深圳市先地图像科技有限公司

    发明人： 陈乃奇 ,  石宝福

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/26

    摘要： 本发明公开了一种控制激光直写设备的出光模块运动的方法及装置，方法包括:步骤1、上位机将包含多个参数的信号源发送给第一控制器，第一控制器将信号源分别发送给第一电机和第二控制器；步骤2、第二控制器将接收到的信号源在反馈回上位机的同时，还发送给第二电机；步骤3、第一电机和第二电机在信号源控制下分别驱动第一主动轮和第二主动轮同时同步转动，以使得套设在第一主动轮和第二主动轮上的传送带带动设置在安装座上的若干均布的激光器在往复运动时的速度保持一致，提高激光器的曝光质量。本方法及装置，能够使得激光器在往复运动过程中速度尽量保持相同，提高了涂镀在基板上的感光涂层的曝光质量。