Invention Publication
CN1477718A 半导体器件
失效 - 权利终止
- Patent Title: 半导体器件
- Patent Title (English): Semiconductor device
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Application No.: CN03106345.4Application Date: 2003-02-25
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Publication No.: CN1477718APublication Date: 2004-02-25
- Inventor: 相原一洋
- Applicant: 三菱电机株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 三菱电机株式会社
- Current Assignee: 三菱电机株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 刘宗杰; 叶恺东
- Priority: 240537/2002 2002.08.21 JP
- Main IPC: H01L29/78
- IPC: H01L29/78 ; H01L27/108

Abstract:
在SiGe结晶膜衬底上形成具有作为沟道区功能的Si结晶膜。还有,在Si结晶膜上形成具有作为沟道区功能的SiGe结晶膜。还有,在SiGe结晶膜及Si结晶膜的两侧形成具有作为源/漏区功能的Si结晶膜。还有,在SiGe结晶膜上,通过栅绝缘膜形成栅电极。按照上述结构,SiGe结晶膜抑制了Si结晶膜的自然氧化。其结果是,得到消除因Si结晶膜表面的自然氧化引起的在Si结晶膜中的导电性降低而产生的问题的半导体器件。
Public/Granted literature
- CN1293644C 半导体器件 Public/Granted day:2007-01-03
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IPC分类: