发明公开
CN1514307A 一种光刻投影装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 一种光刻投影装置
- 专利标题（英）： Photoetching projection device
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申请号： CN200310122072.5申请日： 2003-12-22
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公开(公告)号： CN1514307A公开(公告)日： 2004-07-21
- 发明人: N·J·吉尔森 , S·N·L·当德斯 , M·H·A·里德斯
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 章社杲
- 优先权： 02258866.9 2002.12.23 EP
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027
摘要：
提出一种光刻投影装置，包括：辐射系统，可提供投影光束；支承结构，用来支承图案形成机构，该图案形成机构根据希望的图案使投影光束形成所需要的图案；基片台，用来固定基片；和投影系统，用来将带有图案的光束投射到基片的目标部分；其特征在于还包括至少一个保持结构，其包括至少一个固定带小突起的板的柔性件，带小突起的板用于固定装置的可移动单位体。
公开/授权文献
- CN1311301C 一种光刻投影装置 公开/授权日：2007-04-18
IPC分类:
