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公开(公告)号：CN100559273C
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN03164861.4
申请日：2003-09-26
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·范德拉安 , J·J·M·巴瑟曼斯 , A·J·J·范蒂塞多克 , M·H·A·里德斯 , J·H·J·穆尔斯
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/706
摘要： 一种光刻投影装置，包括：用于提供射线投影束的一辐射系统；支撑图案形成部件的一支撑结构，该图案形成部件用于使投影束形成所需要的图案；用于保持基底的一基底台；一投影系统，用于将已形成图案的光束投影到基底的目标部分上，以及用于测量投影系统波前象差的一测量系统，其特征在于，所述测量系统包括：一衍射元件和用于在投影系统的光瞳中增加射线的光瞳填充的结构，该元件和结构都可移动地进入辐射系统与投影系统之间的投影束；用于检测已穿过投影系统的射线以测量投影系统波前象差的一传感器组件。
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公开(公告)号：CN1514307A
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：CN200310122072.5
申请日：2003-12-22
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/707
摘要： 提出一种光刻投影装置，包括：辐射系统，可提供投影光束；支承结构，用来支承图案形成机构，该图案形成机构根据希望的图案使投影光束形成所需要的图案；基片台，用来固定基片；和投影系统，用来将带有图案的光束投射到基片的目标部分；其特征在于还包括至少一个保持结构，其包括至少一个固定带小突起的板的柔性件，带小突起的板用于固定装置的可移动单位体。
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公开(公告)号：CN1497350A
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN03164861.4
申请日：2003-09-26
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·范德拉安 , J·J·M·巴瑟曼斯 , A·J·J·范蒂塞多克 , M·H·A·里德斯 , J·H·J·穆尔斯
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/706
摘要： 一种光刻投影装置，包括：用于提供射线投影束的一辐射系统；支撑图案形成部件的一支撑结构，该图案形成部件用于使投影束形成所需要的图案；用于保持基底的一基底台；一投影系统，用于将已形成图案的光束投影到基底的目标部分上，以及用于测量投影系统波前象差的一测量系统，其特征在于，所述测量系统包括：一衍射元件和用于在投影系统的光瞳中增加射线的光瞳填充的结构，该元件和结构都可移动地进入辐射系统与投影系统之间的投影束；用于检测已穿过投影系统的射线以测量投影系统波前象差的一传感器组件。
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公开(公告)号：CN100565344C
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200310121698.4
申请日：2003-12-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： L·H·J·斯特文斯 , M·H·A·里德斯 , H·梅林 , J·H·J·莫尔斯
CPC分类号： G03F7/70925 , B08B7/0035
摘要： 本发明披露了各种新颖的清洁方法。先前的清洁方法普遍在于它们都包括将氧气注入整个系统内并将提供清洁辐射光束的单个辐射源接入到光刻装置内的每个光学元件。这会导致一些光学元件的过度曝光，而同时其它的光学元件并未被足够程度地清洁。通过提供一种系统就可以克服这一问题，该系统允许选择性地清洁一些或一组光学元件，且允许在光学元件的表面上出现空间变化的清洁。这可以通过仅仅向一个或一些光学元件供给清洁辐射光束和/或通过增加某些光学元件附近的局部氧气密度来实现。通过使用可以是动态自适应的灰色滤光片或者通过使用可控制的电子束部件就能够获得空间分解的清洁。
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公开(公告)号：CN100507718C
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200410032892.X
申请日：2004-04-13
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7019 , G03F7/70258 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/709 , G03F9/7011
摘要： 本发明涉及一种投影系统，包括至少一个投射装置(10)，该投影装置设置为接收来自第一物体(MA)的投射光束(PB)，并将该投射光束投射到第二物体(W)上。投影系统(PL)进一步包括传感器(11)，该传感器用于测量至少一个投射装置(10)的空间定向。投影系统(PL)包括处理单元(40)，该处理单元设置为与至少一个传感器(11)相连。处理单元(40)进一步设置为与定位装置(PW，PM)连接，定位装置设置为根据测得的至少一个投射装置(10)的空间定向来调整第一(MA)和第二物体(W)中至少一个的位置。
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公开(公告)号：CN100480858C
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200410047720.X
申请日：2004-04-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·H·A·里德斯 , H·J·M·梅杰 , E·A·F·范德帕斯奇 , M·J·M·伦肯斯 , T·A·M·柳杰尔
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/7085
摘要： 在光刻投影装置中，用于测量投影系统PL相对于参考系RF的位置的测量系统包括相对于用于测量衬底台座WT位置的测量系统中对应传感器而刚性安装的传感器。角编码器将来自靶41的光向下发送到对倾斜具有相反敏感性的两条光路中，用该角编码器测量投影系统PL围绕其光轴的旋转。
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公开(公告)号：CN1677239A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510059568.1
申请日：2005-03-30
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： E·A·F·范德帕斯奇 , M·H·M·比姆斯 , M·H·A·里德斯
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70575 , G03F7/7005
摘要： 本发明公开了一种光刻设备，包括：配置成向照明系统提供辐射的辐射源，该辐射源配置成提供第一波长范围和第二波长范围的辐射，该第二波长范围不同于第一波长范围；支撑物，配置成支撑图形化装置，该图形化装置配置成向辐射的横截面传递图形；衬底工作台，配置成支持衬底；以及投影系统，配置成将图形化的辐射投影到衬底的目标部分上。第一波长范围是该光刻设备的主要波长。第二波长范围用于初始化该光刻设备，该初始化包括校准、验证、性能测试以及对准中的一种或多种。第二波长范围也可用于曝光另外的衬底。
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公开(公告)号：CN1542554A
公开(公告)日：2004-11-03
申请号：CN200410047720.X
申请日：2004-04-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·H·A·里德斯 , H·J·M·梅杰 , E·A·F·范德帕斯奇 , M·J·M·伦肯斯 , T·A·M·柳杰尔
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/7085
摘要： 在光刻投影装置中，用于测量投影系统PL相对于参考系RF的位置的测量系统包括相对于用于测量衬底台座WT位置的测量系统中对应传感器而刚性安装的传感器。角编码器将来自靶41的光向下发送到对倾斜具有相反敏感性的两条光路中，用该角编码器测量投影系统PL围绕其光轴的旋转。
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公开(公告)号：CN1510518A
公开(公告)日：2004-07-07
申请号：CN200310121698.4
申请日：2003-12-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： L·H·J·斯特文斯 , M·H·A·里德斯 , H·梅林 , J·H·J·莫尔斯
CPC分类号： G03F7/70925 , B08B7/0035
摘要： 本发明披露了各种新颖的清洁方法。先前的清洁方法普遍在于它们都包括将氧气注入整个系统内并将提供清洁辐射光束的单个辐射源接入到光刻装置内的每个光学元件。这会导致一些光学元件的过度曝光，而同时其它的光学元件并未被足够程度地清洁。通过提供一种系统就可以克服这一问题，该系统允许选择性地清洁一些或一组光学元件，且允许在光学元件的表面上出现空间变化的清洁。这可以通过仅仅向一个或一些光学元件供给清洁辐射光束和/或通过增加某些光学元件附近的局部氧气密度来实现。通过使用可以是动态自适应的灰色滤光片或者通过使用可控制的电子束部件就能够获得空间分解的清洁。
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公开(公告)号：CN1311301C
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN200310122072.5
申请日：2003-12-22
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/707
摘要： 提出一种光刻投影装置，包括：辐射系统，可提供投影光束；支承结构，用来支承图案形成机构，该图案形成机构根据希望的图案使投影光束形成所需要的图案；基片台，用来固定基片；和投影系统，用来将带有图案的光束投射到基片的目标部分；其特征在于还包括至少一个保持结构，其包括至少一个固定带小突起的板的柔性件，带小突起的板用于固定装置的可移动单位体。
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