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发明公开
CN1524202A 制造液晶显示器的曝光掩模及利用该掩模制造液晶显示器时曝光基板的方法 失效 - 权利终止 转让

  • 专利标题： 制造液晶显示器的曝光掩模及利用该掩模制造液晶显示器时曝光基板的方法
  • 专利标题（英）： Exposure mask for fabricating liquid crystal display and method for exposing substrate in fabricating liquid crystal display using the mask
  • 申请号： CN02802928.3
    申请日： 2002-03-04
  • 公开(公告)号： CN1524202A
    公开(公告)日： 2004-08-25
  • 发明人: 卓英美 , 朴云用 , 洪雯杓 , 李庭镐
  • 申请人： 三星电子株式会社
  • 申请人地址： 韩国京畿道
  • 专利权人： 三星电子株式会社
  • 当前专利权人： 三星显示有限公司
  • 当前专利权人地址： 韩国京畿道
  • 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
  • 代理商 李晓舒; 魏晓刚
  • 优先权： 2001/51818 2001.08.27 KR; 2001/55712 2001.09.11 KR
  • 国际申请： PCT/KR2002/000367 2002.03.04
  • 国际公布： WO2003/019272 EN 2003.03.06
  • 进入国家日期： 2003-05-16
  • 主分类号： G03F7/20
  • IPC分类号： G03F7/20 ;  G03F9/00 ;  G09F9/30 ;  G02F1/133 ;  H01L21/027
制造液晶显示器的曝光掩模及利用该掩模制造液晶显示器时曝光基板的方法
摘要：
一种用于利用基板制造液晶显示器的掩模，包括具有中心线的位于基板中心的第一掩模图形，以对基板中心进行曝光。第二掩模图形位于第一掩模图形左侧，以对基板左侧进行曝光。该第二掩模图形与第一掩模图形相距第一距离。第三掩模图形位于第一掩模图形右侧，以对基板右侧进行曝光。第三掩模图形与第一掩模图形相距第二距离。
公开/授权文献
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