发明公开
CN1625706A 光学应用薄膜,使用此薄膜的发光结构及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 光学应用薄膜,使用此薄膜的发光结构及其制造方法
- 专利标题(英): Thin film for optical applications, light-emitting structure using the same and the fabrication method thereof
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申请号: CN03802967.7申请日: 2003-01-29
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公开(公告)号: CN1625706A公开(公告)日: 2005-06-08
- 发明人: 慎重勋 , 徐世永 , 韩学承
- 申请人: 光神有限会社
- 申请人地址: 韩国汉城
- 专利权人: 光神有限会社
- 当前专利权人: 光神有限会社
- 当前专利权人地址: 韩国汉城
- 代理机构: 北京润平知识产权代理有限公司
- 代理商 周建秋
- 优先权: 10-2002-0005140 2002.01.29 KR
- 国际申请: PCT/KR2003/000206 2003.01.29
- 国际公布: WO2003/065092 EN 2003.08.07
- 进入国家日期: 2004-07-29
- 主分类号: G02B6/10
- IPC分类号: G02B6/10
摘要:
本发明涉及光学应用薄膜,使用此薄膜的发光结构及其制造方法。本发明提供一种光学应用二氧化硅或二氧化硅基薄膜,其中共掺有硅纳米团簇和稀土元素。硅纳米团簇的平均尺寸小于3nm,稀土元素的浓度小于0.1原子数%。在薄膜中,稀土元素与硅纳米团簇的浓度比控制在1到10的范围内。薄膜通过利用硅纳米团簇中电子—空穴重新组合激发稀土元素而发光。根据本发明,对诸如硅纳米团簇的尺寸和浓度、稀土元素的浓度以及它们的浓度比等条件进行特别的优化,以制造性能更好的光学装置。
公开/授权文献
- CN1260587C 光学应用薄膜,使用此薄膜的发光结构及其制造方法 公开/授权日:2006-06-21