发明授权
- 专利标题: 光敏的防反射底面涂层
- 专利标题(英): Photosensitive bottom anti-reflective coatings
-
申请号: CN03818306.4申请日: 2003-07-28
-
公开(公告)号: CN1672097B公开(公告)日: 2010-05-12
- 发明人: D·J·古尔瑞罗
- 申请人: 布鲁尔科技公司
- 申请人地址: 美国密苏里州
- 专利权人: 布鲁尔科技公司
- 当前专利权人: 布鲁尔科技公司
- 当前专利权人地址: 美国密苏里州
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 周承泽
- 优先权: 60/400,461 2002.07.31 US; 10/627,792 2003.07.25 US
- 国际申请: PCT/US2003/024100 2003.07.28
- 国际公布: WO2004/012239 EN 2004.02.05
- 进入国家日期: 2005-01-31
- 主分类号: G03C1/492
- IPC分类号: G03C1/492 ; G03C1/76 ; G03C1/825
摘要:
提供防反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶于或分散于溶剂系统中的聚合物。优选的聚合物包括聚碳酸酯类、聚磺酸酯类、聚碳酸酯-砜类以及它们的混合物。所述组合物可以施涂到硅片或其它基材上,形成开始时不溶于一般光致抗蚀剂显影溶液中的固化或硬化层。当暴露到光中时,所述固化或硬化的层在光致抗蚀剂显影溶液中变得可溶,使所述层和显影的光致抗蚀剂层一起选择性除去,由此取消单独的除去步骤。
公开/授权文献
- CN1672097A 光敏的防反射底面涂层 公开/授权日:2005-09-21