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公开(公告)号：CN1606713B
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：CN01823932.3
申请日：2001-11-15
申请人： 霍尼韦尔国际公司
CPC分类号： G03F7/091 , C08G77/04 , C09D5/006 , C09D183/04 , Y10T428/31663
摘要： 用于紫外照相平版印刷术的抗反射涂料包括被引入到旋涂材料中的至少一种吸收性化合物和至少一种pH调节剂。合适的吸收性化合物是吸收在照相平版印刷术中所用的波长如365nm，248nm，193nm和157nm左右的波长范围内的光的那些化合物。合适的pH调节剂不仅调整最终旋涂组合物的pH，而且影响属于层状材料、电子元件或半导体元件的一部分的最终旋涂组合物的化学性能和特性、机械性能和结构组成，使得最终旋涂组合物与偶合在其上的光刻胶材料更相容。更具体地说，该pH调节剂强烈影响聚合物特性、结构组成和空间取向，这导致提高抗反射涂料的表面性质以获得最佳抗蚀性能。换句话说，仅仅调整旋涂材料的pH但不影响旋涂组合物或偶合的光刻胶材料的机械性能和结构组成的pH调节剂在这里不考虑。制造吸收性和pH调节过的旋涂材料的方法包括在旋涂材料和组合物的合成过程中将至少一种有机吸收性化合物和至少一种pH调节剂与至少一种硅烷反应物混合。
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公开(公告)号：CN1672097B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN03818306.4
申请日：2003-07-28
申请人： 布鲁尔科技公司
发明人： D·J·古尔瑞罗
CPC分类号： G03F7/091 , C08G64/081 , C08G64/1608 , C08G64/165 , C08G73/0246 , C08G73/026 , C08G75/23 , C08L69/00 , C08L81/06 , Y10T428/31507 , Y10T428/31551 , C08L2666/18
摘要： 提供防反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶于或分散于溶剂系统中的聚合物。优选的聚合物包括聚碳酸酯类、聚磺酸酯类、聚碳酸酯-砜类以及它们的混合物。所述组合物可以施涂到硅片或其它基材上，形成开始时不溶于一般光致抗蚀剂显影溶液中的固化或硬化层。当暴露到光中时，所述固化或硬化的层在光致抗蚀剂显影溶液中变得可溶，使所述层和显影的光致抗蚀剂层一起选择性除去，由此取消单独的除去步骤。
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公开(公告)号：CN1985216A
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200580023357.0
申请日：2005-05-16
申请人： 麦克德米德印刷方案股份有限公司
摘要： 一种制造凸纹图像印刷版的方法，该方法包括以下步骤：提供感光印刷部件；通过将感光层对一种或多种光化辐射源预曝光来抑制感光树脂层中的溶解氧，其中一种或多种光化辐射源跨越的波长范围差异不大于约20nm；以及将所述感光树脂层对光化辐射成像曝光，以使所述感光树脂层交联并固化。感光组合物通常包括至少一种光敏引发剂，其在所述感光组合物中存在的量足以在所述感光组合物预曝光采用的波长下使所述感光组合物所具有的光密度为约0.05～0.43。
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公开(公告)号：CN100999582B
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200710005128.7
申请日：2003-07-28
申请人： 布鲁尔科技公司
发明人： D·J·古尔瑞罗
CPC分类号： G03F7/091 , C08G64/081 , C08G64/1608 , C08G64/165 , C08G73/0246 , C08G73/026 , C08G75/23 , C08L69/00 , C08L81/06 , Y10T428/31507 , Y10T428/31551 , C08L2666/18
摘要： 提供防反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶于或分散于溶剂系统中的聚合物。优选的聚合物包括聚碳酸酯类、聚磺酸酯类、聚碳酸酯-砜类以及它们的混合物。所述组合物可以施涂到硅片或其它基材上，形成开始时不溶于一般光致抗蚀剂显影溶液中的固化或硬化层。当暴露到光中时，所述固化或硬化的层在光致抗蚀剂显影溶液中变得可溶，使所述层和显影的光致抗蚀剂层一起选择性除去，由此取消单独的除去步骤。
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公开(公告)号：CN1758141A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200510089651.3
申请日：2005-05-17
申请人： 罗姆及海斯电子材料有限公司
CPC分类号： G03F7/091 , G03F7/0382 , G03F7/0392
摘要： 提供了能够减少从底材返回到外涂光刻胶层的曝光射线的反射和/或可用作表面流动控制或中介填充层的组合物和方法。优选本发明涂料组合物和方法可以提供增强的外涂光刻胶层图案分辨率，并包括使用低活化温度热产酸剂以及多次热处理，加工底涂料组合物层。
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公开(公告)号：CN1735838A
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN200380108324.7
申请日：2003-11-05
申请人： 光谱系统公司
摘要： 公开了具有不干涉或基本不干涉光学介质数据读出的标记的光学介质。光学介质利用本文所述成色涂层的特定配方。还提供了用于增强成色涂层的保护涂层。包括结合涂层到光学介质的方法。在优选的实施方案中，在施加到光学介质的光敏涂层中形成标记，然后用第一种光固化。使用波长波段与第一种光基本分开的第二种光将标记成象到涂层中。涂层对许多外部影响如周围环境条件和物理磨损是稳固的。
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公开(公告)号：CN1276883A
公开(公告)日：2000-12-13
申请号：CN98810404.0
申请日：1998-10-20
申请人： 伯韦尔科学公司
IPC分类号： G03C1/492
CPC分类号： G03F7/091 , C09D167/00 , Y10S430/109 , C08L61/20
摘要： 公开了热固性底部施用的聚合物防反射涂料,其光密度高、等离子体蚀刻速率快、在优选的涂料溶剂中溶解性高、特征覆盖优异且溶液稳定性得到改进。这些新型防反射涂料的主要组分为通过一种或多种双官能脂族羧酸与超过化学计算量的二和/或三官能脂族伯醇反应得到的聚酯树脂,其中至少一种二羧酸可含有反应性亚甲基(－CH2－)。通过在树脂上存在的一些或所有反应性亚甲基(若存在)和/或羟基上连接光吸收基团而对所得聚酯树脂反应产物进一步改性。将连有染料的聚酯树脂与氨基塑料交联剂和催化剂在合适的溶剂体系中混合,形成最终的防反射涂料。
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公开(公告)号：CN1942824B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200580011954.1
申请日：2005-02-04
申请人： 纳幕尔杜邦公司
IPC分类号： G03C1/492
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/002 , G03F7/0035 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/091 , G03F7/2022 , G03F7/40
摘要： 本发明涉及包含保护性聚合物层和UV阻挡剂的新组合物。所述组合物用于制作使用厚膜浆料的电子装置。本发明还是使用该组合物的电子装置制作方法。保护性聚合物层由辐射之后不溶于包含在厚膜浆料中的酯型溶剂的材料制作。通过适当选择保护膜聚合物，保护膜可与厚膜浆料相容并可进一步用于厚膜浆料的部分对UV辐射的屏蔽。
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公开(公告)号：CN1942824A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200580011954.1
申请日：2005-02-04
申请人： 纳幕尔杜邦公司
IPC分类号： G03C1/492
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/002 , G03F7/0035 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/091 , G03F7/2022 , G03F7/40
摘要： 本发明涉及包含保护性聚合物层和UV阻挡剂的新组合物。所述组合物用于制作使用厚膜浆料的电子装置。本发明还是使用该组合物的电子装置制作方法。保护性聚合物层由辐射之后不溶于包含在厚膜浆料中的酯型溶剂的材料制作。通过适当选择保护膜聚合物，保护膜可与厚膜浆料相容并可进一步用于厚膜浆料的部分对UV辐射的屏蔽。
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公开(公告)号：CN1672097A
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN03818306.4
申请日：2003-07-28
申请人： 部鲁尔科学公司
发明人： D·J·古尔瑞罗
CPC分类号： G03F7/091 , C08G64/081 , C08G64/1608 , C08G64/165 , C08G73/0246 , C08G73/026 , C08G75/23 , C08L69/00 , C08L81/06 , Y10T428/31507 , Y10T428/31551 , C08L2666/18
摘要： 提供防反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶于或分散于溶剂系统中的聚合物。优选的聚合物包括聚碳酸酯类、聚磺酸酯类、聚碳酸酯－砜类以及它们的混合物。所述组合物可以施涂到硅片或其它基材上，形成开始时不溶于一般光致抗蚀剂显影溶液中的固化或硬化层。当暴露到光中时，所述固化或硬化的层在光致抗蚀剂显影溶液中变得可溶，使所述层和显影的光致抗蚀剂层一起选择性除去，由此取消单独的除去步骤。
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