发明公开

半导体激光元件
摘要:
一种半导体激光元件及其制造方法,该半导体激光元件中,在p型GaAs盖层的层厚和p型AlXGa1-XAs(X=0.550)第二包层的层厚相加的层厚与p型GaAs盖层的层厚和p型AlGaInP第二上包层的层厚相加的层厚的比跟干蚀刻p型GaAs盖层以及p型AlXGa1-XAs(X=0.550)第二包层时的蚀刻速率与干蚀刻p型GaAs盖层以及p型AlGaInP第二上包层时的蚀刻速率的比大致相同。
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