发明公开
- 专利标题： 用于电子器件的可变电阻聚(3,4－亚乙基二氧噻吩)/聚苯乙烯磺酸盐
- 专利标题（英）： Variable resistance poly(3,4-ethylenedioxythiophene)/poly (styrene sulfonate) for use in electronic devices
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申请号： CN200480001845.7申请日： 2004-01-06
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公开(公告)号： CN1723245A公开(公告)日： 2006-01-18
- 发明人: C·张
- 申请人： E·I·内穆尔杜邦公司
- 申请人地址： 美国特拉华州
- 专利权人： E·I·内穆尔杜邦公司
- 当前专利权人： E·I·内穆尔杜邦公司
- 当前专利权人地址： 美国特拉华州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 朱黎明
- 优先权： 60/438,170 2003.01.06 US
- 国际申请： PCT/US2004/000391 2004.01.06
- 国际公布： WO2004/063277 EN 2004.07.29
- 进入国家日期： 2005-07-04
- 主分类号： C08L65/00
- IPC分类号： C08L65/00 ; H01B1/12 ; H01L51/30
摘要：
提供一种用于电致发光器件(例如OLED)的可变电阻PEDT/PSS缓冲层。本发明的另一个实例提供一种OLED，它包括可变电阻的PEDT/PSS缓冲层。本发明再一个实例研制一种改变由水溶液流延在基片上的PEDT/PSS层电导率的方法，它包括在流延前向PEDT/PSS水溶液加入助溶剂。
