Invention Publication
- Patent Title: 基板处理装置
- Patent Title (English): Substrate processing device
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Application No.: CN200510106831.8Application Date: 2005-09-23
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Publication No.: CN1757440APublication Date: 2006-04-12
- Inventor: 高木善则
- Applicant: 大日本网目版制造株式会社
- Applicant Address: 日本京都府
- Assignee: 大日本网目版制造株式会社
- Current Assignee: 大日本网屏制造株式会社
- Current Assignee Address: 日本京都府
- Agency: 隆天国际知识产权代理有限公司
- Agent 高龙鑫; 王玉双
- Priority: 2004-291299 2004.10.04 JP
- Main IPC: B05C5/02
- IPC: B05C5/02 ; B05C11/02 ; B05B3/18
Abstract:
本发明提供可高精度地检测可能与狭缝喷嘴接触的异物等的狭缝式涂敷机。可挠性平板(61)配置在狭缝喷嘴(1)的行进前方侧(+X侧),激光向平板(61)的后方侧(-X侧)照射。在涂敷处理中在狭缝喷嘴(1)应该行进的基板90上,存在异物等被检测物体(NG)的情况下,在被检测物体(NG)与狭缝喷嘴(1)接触之前,被检测物体(NG)与平板(61)接触。平板(61)一旦与被检测物体(NG)接触,其一部分会发生挠性变形向-X侧相对移动,遮断激光。基于此激光受光量的减少,可以检测出被检测物体(NG)。
Public/Granted literature
- CN1757440B 基板处理装置 Public/Granted day:2011-05-11
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