发明公开
CN1759474A 等离子加工装置和方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 等离子加工装置和方法
- 专利标题（英）： Plasma processing apparatus and method
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申请号： CN200480006180.9申请日： 2004-03-04
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公开(公告)号： CN1759474A公开(公告)日： 2006-04-12
- 发明人: 野上光秀 , 宫本荣司
- 申请人： 积水化学工业株式会社
- 申请人地址： 日本大阪府
- 专利权人： 积水化学工业株式会社
- 当前专利权人： 积水化学工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本大阪府
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 陈平
- 优先权： 060285/2003 2003.03.06 JP; 060286/2003 2003.03.06 JP; 304897/2003 2003.08.28 JP; 377383/2003 2003.11.06 JP; 377385/2003 2003.11.06 JP
- 国际申请： PCT/JP2004/002724 2004.03.04
- 国际公布： WO2004/079811 JA 2004.09.16
- 进入国家日期： 2005-09-06
- 主分类号： H01L21/3065
- IPC分类号： H01L21/3065
摘要：
等离子加工装置的喷嘴头(NH)包括：环形内保持器(3)；围绕内保持器(3)的环形内电极(11)；围绕内电极的环形外电极(21)；以及围绕外电极(21)的环形外保持器(4)。内保持器(3)设有多个螺栓(7)，所述螺栓以间距周向安置并用于径向向外挤压内电极(11)。外保持器(4)设有多个螺栓(8)，所述多个螺栓(8)以间距周向安置以径向向内挤压外电极(21)。使用此结构，环形电极(11、21)的卸装、安装和对心可以很容易进行。
公开/授权文献
- CN100375246C 等离子加工装置 公开/授权日：2008-03-12
IPC分类:
