发明公开
- 专利标题: 用于CMOS APS的双钉扎光电二极管及形成方法
- 专利标题(英): Double pinned photodiode for cmos aps and method of formation
-
申请号: CN200480014780.X申请日: 2004-03-26
-
公开(公告)号: CN1795561A公开(公告)日: 2006-06-28
- 发明人: I·帕特里克
- 申请人: 微米技术有限公司
- 申请人地址: 美国爱达荷州
- 专利权人: 微米技术有限公司
- 当前专利权人: 普廷数码影像控股公司
- 当前专利权人地址: 美国爱达荷州
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 吴立明; 梁永
- 优先权: 10/400,389 2003.03.28 US
- 国际申请: PCT/US2004/009400 2004.03.26
- 国际公布: WO2004/086507 EN 2004.10.07
- 进入国家日期: 2005-11-28
- 主分类号: H01L27/146
- IPC分类号: H01L27/146 ; H01L31/0352
摘要:
本发明公开了一种钉扎光电二极管,其具有增加的电子容量,以及一种用于形成该钉扎光电二极管的方法。本发明提供了一种钉扎光电二极管结构,其包括衬底基底,在其上方是第一半导体材料层。提供了第一导电类型的基层,其中第一导电类型的基层是衬底基底或是衬底基底上的掺杂层。至少一个第二导电类型的掺杂区域位于所述第一层的表面下方,并且延伸以与基层形成第一结。第一导电类型的掺杂表面层位于至少一个第二导电类型的区域上,并且与所述至少一个第二导电类型的区域形成第二结。
公开/授权文献
- CN100444397C 用于CMOS APS的双钉扎光电二极管及形成方法 公开/授权日:2008-12-17