用于CMOS APS的双钉扎光电二极管及形成方法
摘要:
本发明公开了一种钉扎光电二极管,其具有增加的电子容量,以及一种用于形成该钉扎光电二极管的方法。本发明提供了一种钉扎光电二极管结构,其包括衬底基底,在其上方是第一半导体材料层。提供了第一导电类型的基层,其中第一导电类型的基层是衬底基底或是衬底基底上的掺杂层。至少一个第二导电类型的掺杂区域位于所述第一层的表面下方,并且延伸以与基层形成第一结。第一导电类型的掺杂表面层位于至少一个第二导电类型的区域上,并且与所述至少一个第二导电类型的区域形成第二结。
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