发明公开
CN1797214A 光刻设备和器件制造方法
无效 - 撤回
- 专利标题： 光刻设备和器件制造方法
- 专利标题（英）： Lithographic apparatus and device manufacturing method
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申请号： CN200510134132.4申请日： 2005-12-26
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公开(公告)号： CN1797214A公开(公告)日： 2006-07-05
- 发明人: A·J·布里克 , J·J·M·巴塞曼斯 , M·M·T·M·迪伊里奇斯 , C·瓦格纳 , L·赖齐科夫 , S·Y·斯米诺夫 , K·Z·特鲁斯特
- 申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股有限公司
- 申请人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司,ASML控股有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司,ASML控股有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 李亚非; 梁永
- 优先权： 11/020567 2004.12.27 US
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027
摘要：
一种系统和方法用于引导辐射束以非垂直地照射用于构图该辐射束的单独可控元件的构图阵列。这些单独可控元件可以改变该辐射束的远心。可以通过凹面镜或使用在这些单独可控元件的物场中放置的折叠式反射镜来将该辐射束投射到这些单独可控元件上。可替换地，这些单独可控元件可以改变该辐射束的光轴。
IPC分类:
