光敏树脂组合物、由其制成的薄膜面板和薄膜面板的制法

发明授权

CN1800981B 光敏树脂组合物、由其制成的薄膜面板和薄膜面板的制法失效 - 权利终止转让

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专利标题： 光敏树脂组合物、由其制成的薄膜面板和薄膜面板的制法
专利标题（英）： Photosensitive resin composition, thin film panel made with photosensitive composition, and method for manufacturing thin film panel
申请号： CN200510137394.6

申请日： 2005-12-23
公开(公告)号： CN1800981B

公开(公告)日： 2010-12-01
发明人: 李羲国 , 中野由子 , 金圭宁
申请人： 三星电子株式会社 , 住友化学株式会社
申请人地址： 韩国京畿道
专利权人： 三星电子株式会社,住友化学株式会社
当前专利权人： 三星显示有限公司,住友化学株式会社
当前专利权人地址： 韩国京畿道
代理机构： 北京市柳沈律师事务所
代理商 宋莉; 贾静环
优先权： 112255/04 2004.12.24 KR
主分类号： G03F7/012
IPC分类号： G03F7/012 ; G03F7/20 ; H01L21/00

摘要：

一种光敏树脂组合物，包括碱溶性树脂、醌二叠氮、表面活性剂和溶剂。该表面活性剂包括：具有结构的有机氟化合物、具有结构的第一硅树脂化合物、和具有结构的第二硅树脂化合物。该树脂组合物可用在显示面板中。

摘要（英）：

A photosensitive resin composition includes an alkali-soluble resin, a quinone diazide, a surfactant, and a solvent. The surfactant includes an organic fluorine compound having the structure1, a first silicone compound having the structure2 ,a second silicone compound having the structure3, The resin composition may be used in display panels.

公开/授权文献

CN1800981A 光敏树脂组合物、由其制成的薄膜面板和薄膜面板的制法公开/授权日：2006-07-12

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中国专利公布公告 Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）
G03F7/008	..叠氮化合物（G03F7/075优先）
G03F7/012	...高分子叠氮化合物；高分子添加剂，例如，黏结剂