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发明授权
CN1842741B 化学放大型光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂层层叠体、光致抗蚀剂组合物的制造方法、光致抗蚀图案的制造方法以及连接端子的制造方法 有权

  • 专利标题： 化学放大型光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂层层叠体、光致抗蚀剂组合物的制造方法、光致抗蚀图案的制造方法以及连接端子的制造方法
  • 专利标题（英）： Chemical amplification photoresist composition, photoresist layer laminate, method for producing photoresist composition, method for producing photoresist pattern and method for producing connecting t
  • 申请号： CN200480005670.7
    申请日： 2004-12-03
  • 公开(公告)号： CN1842741B
    公开(公告)日： 2010-11-24
  • 发明人: 鹫尾泰史 , 斋藤宏二
  • 申请人： 东京应化工业株式会社
  • 申请人地址： 日本神奈川县
  • 专利权人： 东京应化工业株式会社
  • 当前专利权人： 东京应化工业株式会社
  • 当前专利权人地址： 日本神奈川县
  • 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
  • 代理商 朱丹
  • 国际申请： PCT/JP2004/018032 2004.12.03
  • 国际公布： WO2006/059392 JA 2006.06.08
  • 进入国家日期： 2005-09-01
  • 主分类号： G03F7/004
  • IPC分类号： G03F7/004 ;  G03F7/039 ;  G03F7/038
化学放大型光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂层层叠体、光致抗蚀剂组合物的制造方法、光致抗蚀图案的制造方法以及连接端子的制造方法
摘要：
本发明提供一种化学放大型光致抗蚀剂组合物，含有(a)在酸的作用下碱溶解性发生变化的树脂、(b)通过放射线照射产生酸的化合物和(c)防锈剂。由此，本发明可提供在放射线照射前碱溶解性不会发生变化的稳定的化学放大型光致抗蚀剂组合物、以及在支撑体上层叠了该光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀剂层层叠体、使用了该层叠体的光致抗蚀图案制造方法以及连接端子制造方法。
摘要（英）：

A chemical amplification photoresist composition which comprises (a) a resin exhibiting the solubility in an alkali which is changed by an acid, (b) a compound generating an acid upon irradiation with a radiation and (c) an anticorrosive agent; a photoresist layer laminate comprising a support and said photoresist composition laminated thereon, a method for producing a photoresist pattern using the laminate, and a method for producing a connecting terminal. The above chemical amplification photoresist composition is stable and free from the change of the solubility in an alkali before the irradiation with a radiation.

公开/授权文献
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