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公开(公告)号：CN114384758B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202111144224.6
申请日：2021-09-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/004 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种即使在烘烤温度较低的情况下也能够形成具有较高溶剂抗性的遮光性的固化物的黑色感光性树脂组合物、使用该黑色感光性树脂组合物的图案化的固化物的制造方法、由上述的黑色感光性树脂组合物的固化物构成的图案化的固化物、由上述的黑色感光性树脂组合物的固化物构成的黑色矩阵。本发明使用包含碱可溶性树脂(A)、特定的光聚合性单体(B)、光聚合引发剂(C)、特定的遮光剂(D)的黑色感光性树脂组合物。
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公开(公告)号：CN114503030B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202080069169.6
申请日：2020-10-05
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明采用含有含环氧基树脂与金属氧化物与阳离子聚合引发剂、利用使用了含有有机溶剂的显影液的显影形成负型图案的负型感光性树脂组合物或者感光性抗蚀剂薄膜作为用于形成中空结构的感光性材料。使用上述负型感光性树脂组合物而在硅晶圆上形成的膜厚20μm的感光性树脂膜的马氏硬度小于235[N/mm2]，并且将该感光性树脂膜固化而得的固化膜在以频率1.0Hz进行粘弹性测量的情况下的温度175℃时的拉伸弹性模量(E*)为2.1[GPa]以上。
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公开(公告)号：CN118829948A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202380023332.9
申请日：2023-01-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/26 , G03F7/039 , G03F7/09 , G03F7/20 , G03F7/40 , G03F7/42 , H01L21/3205 , H01L21/3213 , H01L21/768
Abstract: 本发明提供一种镀覆造形物的制造方法，能够抑制使用感光性组合物形成作为镀覆造形物形成用的铸模使用的图案时的该图案中的底脚，并且能够使用上述铸模形成对基板表面的金属层的密合性良好的镀覆造形物，且能够抑制镀覆造形物形成后对在其上未形成有镀覆造形物的基板表面的金属层进行蚀刻时的蚀刻残渣。使用包含规定结构的含硫化合物及/或含氮化合物的感光性组合物形成作为镀覆造形物形成用的铸模使用的抗蚀剂图案，在形成镀覆造形物之前，对从抗蚀剂图案的非抗蚀剂部露出的由金属构成的表面实施灰化，并且在镀覆造形物形成后利用包含碱性化合物的剥离液剥离抗蚀剂图案，之后对在其上未形成有镀覆造形物的基板表面的金属层进行蚀刻。
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公开(公告)号：CN118696275A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202380021885.0
申请日：2023-02-16
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , C09D163/00 , C09D201/00 , G03F7/038 , G03F7/40 , H05K3/00
Abstract: 采用中空结构体(100)的制造方法，该中空结构体包括凹部(15)和将凹部(15)的开口面封堵的顶板部，使用支承体(50)与抗蚀剂层(30)的层叠体(80)形成侧壁(20)及顶板部中的至少一者，支承体(50)由波长365nm的光线透过率为85％以上且照射了波长365nm时的雾度值为1.0％以下的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜构成，抗蚀剂层(30)由利用负型感光性组合物形成的感光性层形成，进行下述操作：隔着支承体(50)对抗蚀剂层(30)进行曝光，将曝光后的层叠体(80)用含有有机溶剂的显影液显影，形成负型图案。根据该制造方法，在形成中空结构体的侧壁或顶板部时，能够实现图案的光刻特性(形状、缺陷减少)的进一步提高，能够稳定地制造中空结构体。
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公开(公告)号：CN114514308B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202080067846.0
申请日：2020-09-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 大坂享史
IPC: C12M1/12 , C12M1/00 , G01N33/569
Abstract: 该细胞筛选器件(1)具有：底板部(2)；细胞载置膜(6)，其设置于底板部(2)上，构成细胞载置面(4)；一对流体注入部(8)，其以与细胞载置膜(6)分区的方式设置于底板部(2)上；和流路(10)，其设置于底板部(2)与细胞载置膜(6)之间，流路端部(12)延伸至流体注入部(8)。在细胞载置膜(6)的细胞载置面(4)形成有：具有能将需要筛选的细胞(C)分别收容的尺寸的多个孔、和从孔的内底面通向流路(10)的贯通孔。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118511128A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202280087598.5
申请日：2022-12-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有呋喃树脂、因热而产生酸的热产酸剂成分和溶剂。此外，一种抗蚀剂图案形成方法，其包括：使用所述抗蚀剂下层膜形成用组合物在基板上形成抗蚀剂下层膜的工序；使用抗蚀剂组合物在所述抗蚀剂下层膜上形成抗蚀剂膜的工序；对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序；对所述曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序。一种包括所述抗蚀剂图案形成方法的抗蚀剂下层膜图案的形成方法及图案形成方法。
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公开(公告)号：CN118451370A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202280085974.7
申请日：2022-12-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，具有碱可溶性树脂、化合物(B0)、以及交联剂，碱可溶性树脂具有以通式(a10‑1)表示的结构单元及以通式(a20‑1)表示的结构单元，LogP为2.8以下，化合物(B0)的波长248nm的摩尔吸光系数为10000mol‑1·L·cm‑1以下，该抗蚀剂组合物的固体成分浓度为15质量％以上。式中，Rx1及Rx2为氢原子等。Yax1及Yax2为单键或2价连接基团。Wax1为可具有取代基的芳香族烃基。nax1为1以上的整数。Rax2为烃基。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118109069A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202311602514.X
申请日：2023-11-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D4/02 , C09D4/06 , C09D145/00
Abstract: 本发明涉及树脂组合物、固化物及固化物的制造方法。本发明的课题是提供能供给耐化学药品性优异的固化物并且成膜性优异的树脂组合物、该树脂组合物的固化物、和该固化物的制造方法。本发明的解决手段为：在包含环状烯烃聚合物和有机溶剂的树脂组合物中，使用作为环状烯烃聚合物的包含具有聚合性基团的结构单元(A1)以及具有含有选自醚键、‑CO‑O‑、‑CO‑S‑及‑CO‑NR9‑中的1个以上键的有机基团的结构单元(A2)的树脂(A)、和作为有机溶剂的极性溶剂(S1)。
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公开(公告)号：CN118108899A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202311599878.7
申请日：2023-11-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 张媛婧
IPC: C08F277/00 , C08F222/14 , C08F222/20 , C09D4/02 , C09D4/06
Abstract: 本发明涉及固化性树脂组合物、固化物及固化物的制造方法。本发明的课题是提供能供给耐化学药品性优异的固化物并且能于低温形成固化物的固化性树脂组合物、该固化性树脂组合物的固化物、和该固化物的制造方法。本发明的解决手段为：在包含环状烯烃聚合物和自由基聚合性单体的固化性树脂组合物中，使用作为环状烯烃聚合物的包含具有聚合性基团的结构单元(A1)以及具有含有选自醚键、‑CO‑O‑、‑CO‑S‑及‑CO‑NR9‑中的1个以上键的有机基团的结构单元(A2)的树脂(A)、和作为自由基聚合性单体(B)的多官能单体(B1)。
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公开(公告)号：CN117957282A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202280061759.3
申请日：2022-09-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种相分离结构形成用树脂组合物，含有：具有第1a嵌段与第1b嵌段的第1嵌段共聚物、具有第2a嵌段与第2b嵌段的第2嵌段共聚物、能够与第1a嵌段及第2a嵌段相溶的均聚物A、能够与第1b嵌段及第2b嵌段相溶的均聚物B，构成第1a嵌段及第2a嵌段的结构单元相同，构成第1b嵌段及第2b嵌段的结构单元相同，第2嵌段共聚物的数均分子量大于第1嵌段共聚物。
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