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发明授权
CN1847981B 负性光致抗蚀剂组合物 失效 - 权利终止

负性光致抗蚀剂组合物
摘要：
本发明提供了一种负性光致抗蚀剂组合物，具体地说，本发明提供了一种包含聚(2-乙基-2-噁唑啉)、叠氮化物类光敏剂和纯水的负性光致抗蚀剂组合物。本发明的负性光致抗蚀剂组合物可以防止环境危害，当应用于CRT的B/M生产过程、荫罩生产过程等时可代替采用Cr的光致抗蚀剂，并且可以在曝光时通过适当地选择光使光吸收带符合加工条件，从而增加感光度，使得可以得到具有优异粘附性和分辨率的点状/条状光致抗蚀剂膜。
摘要（英）：

The invention discloses a negative photoproduced resist composition of poly-2- ethyl-2-oxazoline, azide photosensitizer and pure water, which is characterized by the following: preventing environmental danger; fitting for B/M manufacturing course of CRT; replacing Cr photoproduced resist; increasing luminous sensitivity; possessing point-shaped/bar-shaped photoproduced resist film with superior adhesiveness and distinguished rate.

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