专利检索 ap:("株式会社东进世美肯") AND inv:"李学俊" 第 1 页

1.

发明授权
负性光致抗蚀剂组合物失效

公开(公告)号：CN1847981B

公开(公告)日：2010-09-08

申请号：CN200610072012.0

申请日：2006-04-04

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 金玟秀 , 李学俊 , 朴赞硕

IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/00

摘要： 本发明提供了一种负性光致抗蚀剂组合物，具体地说，本发明提供了一种包含聚(2-乙基-2-噁唑啉)、叠氮化物类光敏剂和纯水的负性光致抗蚀剂组合物。本发明的负性光致抗蚀剂组合物可以防止环境危害，当应用于CRT的B/M生产过程、荫罩生产过程等时可代替采用Cr的光致抗蚀剂，并且可以在曝光时通过适当地选择光使光吸收带符合加工条件，从而增加感光度，使得可以得到具有优异粘附性和分辨率的点状/条状光致抗蚀剂膜。