发明公开
CN1897793A 处理和检测通路的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 处理和检测通路的方法
- 专利标题(英): Method of treating and probing a via
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申请号: CN200610106460.8申请日: 2006-04-22
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公开(公告)号: CN1897793A公开(公告)日: 2007-01-17
- 发明人: A·莱昂
- 申请人: 惠普开发有限公司
- 申请人地址: 美国德克萨斯州
- 专利权人: 惠普开发有限公司
- 当前专利权人: 惠普开发有限公司
- 当前专利权人地址: 美国德克萨斯州
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 杨松龄
- 优先权: 11/112016 2005.04.22 US
- 主分类号: H05K3/40
- IPC分类号: H05K3/40 ; G01R31/28
摘要:
本发明提供一种处理与基片(21)连接的通路(10)的方法和检测通路(10)的方法。无铅焊料糊(60)的图案涂加在通路(10)的孔(13)周围。焊糊(60)回流形成通路(10)的焊盘(12)上的无铅焊料的图案,其仅覆盖在焊盘(12)的部分表面区域一部分,焊料糊基本上对称地定位于孔(13)的相对侧面。在回流中产生的焊剂不足以塞住孔(13)。可通过包括共线的第一和第二边缘和具有相对于焊盘(12)上的无铅焊料图案的优选的方位的片状探针探测无铅焊料。
公开/授权文献
- CN1897793B 处理和检测通路的方法 公开/授权日:2010-04-14