发明授权
CN1921004B 磁性存储器件及其制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 磁性存储器件及其制造方法
- 专利标题(英): Magnetic memory device and method of fabricating the same
-
申请号: CN200610121875.2申请日: 2006-08-25
-
公开(公告)号: CN1921004B公开(公告)日: 2010-11-17
- 发明人: 赵佑荣 , 辛允承 , 卞贤根 , 郭忠根
- 申请人: 三星电子株式会社
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 陶凤波
- 优先权: 78365/05 2005.08.25 KR
- 主分类号: G11C11/15
- IPC分类号: G11C11/15 ; H01L27/00
摘要:
本发明公开了一种磁性存储器件,其包括:公用线;第一写入二极管、读取二极管和第二写入二极管,并联连接到该公用线上。该磁性存储器件还包括:磁性隧道结结构,连接到该读取二极管上;第一和第二写入导体,设置在该磁性隧道结结构的两侧,并分别连接到该第一和第二写入二极管上;和第一写入线、读取线和第二写入线,其分别连接到该第一写入导体、该磁性隧道结结构和该第二写入导体上。
公开/授权文献
- CN1921004A 磁性存储器件及其制造方法 公开/授权日:2007-02-28