发明公开
CN1973233A 用于光谱分析的像差校正
失效 - 权利终止
- 专利标题: 用于光谱分析的像差校正
- 专利标题(英): Aberration correction for spectroscopic analysis
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申请号: CN200580020590.3申请日: 2005-06-13
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公开(公告)号: CN1973233A公开(公告)日: 2007-05-30
- 发明人: M·C·范比克 , W·H·J·伦森 , G·卢卡森 , M·范德沃特 , B·L·G·巴克
- 申请人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 申请人地址: 荷兰艾恩德霍芬
- 专利权人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 当前专利权人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰艾恩德霍芬
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 王庆海; 陈景峻
- 优先权: 04102841.6 2004.06.21 EP
- 国际申请: PCT/IB2005/051944 2005.06.13
- 国际公布: WO2006/000939 EN 2006.01.05
- 进入国家日期: 2006-12-21
- 主分类号: G02B21/00
- IPC分类号: G02B21/00 ; G01J3/28
摘要:
本发明提供一种光谱系统(100),用于确定人体的感兴趣的体积(120)中生物结构的特性。该光谱系统(100)包括一个低成本物镜(118),用于引导激励光束至感兴趣的体积(120)并且从感兴趣的体积(120)收集返回辐射(124)。在检测到返回辐射(124),即光谱信号之后,一个校正单元(106)对由该低成本物镜(118)引入的光谱信号的像差进行补偿。由于所述物镜(118)的像差强烈地依赖于感兴趣的体积(120)距离物镜(118)的光轴(116)的横向距离(122),该校正单元(106)有效地使用一个校正表(110),该校正表(110)提供了校正值与感兴趣的体积(120)的各个横向位置(122)之间的分配关系。
公开/授权文献
- CN100437195C 用于光谱分析中像差校正的方法和系统 公开/授权日:2008-11-26