Invention Publication
CN1973233A 用于光谱分析的像差校正
失效 - 权利终止
- Patent Title: 用于光谱分析的像差校正
- Patent Title (English): Aberration correction for spectroscopic analysis
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Application No.: CN200580020590.3Application Date: 2005-06-13
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Publication No.: CN1973233APublication Date: 2007-05-30
- Inventor: M·C·范比克 , W·H·J·伦森 , G·卢卡森 , M·范德沃特 , B·L·G·巴克
- Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- Applicant Address: 荷兰艾恩德霍芬
- Assignee: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- Current Assignee: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰艾恩德霍芬
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 王庆海; 陈景峻
- Priority: 04102841.6 2004.06.21 EP
- International Application: PCT/IB2005/051944 2005.06.13
- International Announcement: WO2006/000939 EN 2006.01.05
- Date entered country: 2006-12-21
- Main IPC: G02B21/00
- IPC: G02B21/00 ; G01J3/28

Abstract:
本发明提供一种光谱系统(100),用于确定人体的感兴趣的体积(120)中生物结构的特性。该光谱系统(100)包括一个低成本物镜(118),用于引导激励光束至感兴趣的体积(120)并且从感兴趣的体积(120)收集返回辐射(124)。在检测到返回辐射(124),即光谱信号之后,一个校正单元(106)对由该低成本物镜(118)引入的光谱信号的像差进行补偿。由于所述物镜(118)的像差强烈地依赖于感兴趣的体积(120)距离物镜(118)的光轴(116)的横向距离(122),该校正单元(106)有效地使用一个校正表(110),该校正表(110)提供了校正值与感兴趣的体积(120)的各个横向位置(122)之间的分配关系。
Public/Granted literature
- CN100437195C 用于光谱分析中像差校正的方法和系统 Public/Granted day:2008-11-26
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