一种用于化学镀铜的电接触装置，设置于化学镀槽中，包括，化学镀槽为一上端开口的箱体；两金属连接卡座，分设于化学镀槽两侧的上端面，金属连接座上端面设V形凹槽；金属连接卡座上设电连接头；一飞巴，包括一横梁及其两端的接触头；接触头为与金属连接卡座V形凹槽匹配的V形结构；待镀线路板悬挂于横梁上；金属连接卡座及飞巴形成阴极；至少一阳极用金属片，设于化学镀槽内一侧；电源及整流器，金属连接卡座上电连接头及阳极用金属片通过导线电连接该整流器；控制器，电源及整流器电连接控制器。线路板进入化学镀铜槽起始时即给线路板提供一负电压，激发化学镀铜起始反应，保证后续化学镀铜反应正常进行，解决了化学镀铜线背光不稳定的问题。