实用新型
CN209178462U 一种内孔旋转等离子喷涂基体原位冷却装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种内孔旋转等离子喷涂基体原位冷却装置
- 专利标题(英): In-situ cooling device for inner hole rotary plasma spraying base body
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申请号: CN201822115044.5申请日: 2018-12-17
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公开(公告)号: CN209178462U公开(公告)日: 2019-07-30
- 发明人: 王海斗 , 马国政 , 丁述宇 , 陈书赢 , 何鹏飞 , 王译文 , 周雳 , 徐滨士
- 申请人: 中国人民解放军陆军装甲兵学院
- 申请人地址: 北京市丰台区杜家坎21号院
- 专利权人: 中国人民解放军陆军装甲兵学院
- 当前专利权人: 中国人民解放军陆军装甲兵学院
- 当前专利权人地址: 北京市丰台区杜家坎21号院
- 代理机构: 天津翰林知识产权代理事务所
- 代理商 赵凤英
- 主分类号: C23C4/134
- IPC分类号: C23C4/134
摘要:
本实用新型为一种内孔旋转等离子喷涂基体原位冷却装置。该装置的组成包括导液模块;散热模块和蓄液模块;所述的导液模块组成包括固定卡槽、下导液管、出液管和导液箱,导液箱为筒壁是中空结构的圆筒结构,两侧下部各设置有一个出液管;导液箱的顶端内沿,设置有固定卡槽,固定卡槽的周围,均匀分布有一圈下导液管;所述的散热模块组成包括两块相同的半圆形散热弧面体,所述的散热弧面体的下表面设置有下进液孔,上表面设置有上进液孔。本实用新型结构简单,成本低廉,操作方便,可以用于实现内孔旋转等离子喷涂基体原位冷却。
IPC分类: