Utility Model
- Patent Title: 一种高纯半导体单晶热等静压连接的装配结构
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Application No.: CN202020576893.5Application Date: 2020-04-17
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Publication No.: CN211999986UPublication Date: 2020-11-24
- Inventor: 王书杰 , 孙聂枫 , 孙同年 , 刘惠生 , 徐森锋
- Applicant: 中国电子科技南湖研究院 , 中国电子科技集团公司第十三研究所
- Applicant Address: 浙江省嘉兴市南湖区七星街道灵湖南路东200米清风榻
- Assignee: 中国电子科技南湖研究院,中国电子科技集团公司第十三研究所
- Current Assignee: 中国电子科技南湖研究院,中国电子科技集团公司第十三研究所
- Current Assignee Address: 浙江省嘉兴市南湖区七星街道灵湖南路东200米清风榻
- Agency: 石家庄众志华清知识产权事务所
- Agent 聂旭中
- Main IPC: C30B33/06
- IPC: C30B33/06 ; C30B35/00

Abstract:
一种高纯半导体单晶热等静压连接的装配结构,属于半导体材料制备领域,具体涉及将多块小尺寸单晶通过热等静压方式制备成大尺寸单晶的装配结构。结构中包括包套和置于包套内部的晶块单元,所述包套由包套主体和包套上盖组成,所述包套主体或包套上盖上设置抽气孔,包套内表面设置包套保护层;所述晶块单元包括多个单晶块,单晶块间通过连接面组合,并使用夹具进行固定,外表面设置石英包裹层。采用本实用新型提供的装置,可以实现将小尺寸的单晶块连接制备成大尺寸的单晶,制备过程中,热等静压方式使得各单晶块之间各向受力一致,不必考虑位错、孪晶、多晶化等在传统单晶生长过程中需要注意的问题,设备简单,理论上可以制备任意尺寸的单晶。
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IPC分类: