实用新型
- 专利标题: 一种VAD法提升控制装置
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申请号: CN201921604185.1申请日: 2019-09-25
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公开(公告)号: CN212102579U公开(公告)日: 2020-12-08
- 发明人: 顾金祥 , 周钰楠 , 杜森 , 王友兵 , 李赵华 , 吴振伟 , 简晓松 , 马睿 , 万志斌 , 连坤 , 吴学渊 , 胡景 , 鲁阳
- 申请人: 江苏亨通光导新材料有限公司 , 江苏亨通光电股份有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市吴江经济技术开发区古塘路以南;
- 专利权人: 江苏亨通光导新材料有限公司,江苏亨通光电股份有限公司
- 当前专利权人: 江苏亨通光导新材料有限公司,江苏亨通光电股份有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市吴江经济技术开发区古塘路以南;
- 代理机构: 苏州国诚专利代理有限公司
- 代理商 杜丹盛
- 主分类号: C03B37/014
- IPC分类号: C03B37/014
摘要:
本实用新型提供了一种VAD法提升控制装置,其降低了物料的成本、且使得松散体提升时直线状态稳定可靠。其包括沉积腔体主体,所述沉积腔体主体包括底部沉积壳体、上部高度方向导向壳体,所述高度方向导向壳体顶板的中心位置设置有中心安装孔,其还包括有N个高度方向顺次排布的固定筒,其中N为大于等于2的自然数,每个所述固定筒包括筒体、顶部外凸定位环、底部内收定位环、底部外凸环形限位,所述筒体的顶部外环周设置有径向外凸的顶部外凸定位环,所述筒体的底部内壁设置有径向内凸的底部内收定位环,所述筒体的底部外环周设置有径向外凸的底部外凸环形限位。