实用新型
摘要：
本实用新型涉及一种半导体薄膜制备用闪蒸装置及其生产线，包含：抽真空腔体，连接有抽真空泵，所述抽真空腔体的上表面设置有若干连通孔，所述连通孔连通至所述抽真空泵的内部；放置台，设置于所述抽真空腔体的上端面，用于放置相应的半导体薄膜；密封盖板，所述密封盖板与所述放置台的形状相配合，所述密封盖板覆盖所述放置台并且所述密封盖板盖设于所述抽真空腔体的上端面时，所述密封盖板与所述抽真空腔体的上端面组成密封空间。
