实用新型
- 专利标题: 辐射源装置和辐射检查设备
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申请号: CN202123419275.3申请日: 2021-12-30
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公开(公告)号: CN216749331U公开(公告)日: 2022-06-14
- 发明人: 季峥 , 公令军 , 党永乐 , 侯利娜 , 刘磊 , 宋全伟 , 倪秀琳 , 马媛 , 喻卫丰 , 李营 , 宗春光
- 申请人: 同方威视科技(北京)有限公司 , 同方威视技术股份有限公司
- 申请人地址: 北京市密云区经济开发区园林路18号;
- 专利权人: 同方威视科技(北京)有限公司,同方威视技术股份有限公司
- 当前专利权人: 同方威视科技(北京)有限公司,同方威视技术股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市密云区经济开发区园林路18号;
- 代理机构: 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- 代理商 艾春慧
- 主分类号: G21K1/02
- IPC分类号: G21K1/02 ; G21K5/08
摘要:
本公开提供了一种辐射源装置和辐射检查设备。辐射源装置包括:辐射本体,包括具有多个辐射部的辐射源和与辐射源连接且罩于辐射源外的屏蔽罩,屏蔽罩具有用于辐射源输出射束的射束出射部;安装座,被配置为承载辐射本体;和辐射源位置调节机构,连接于屏蔽罩和安装座之间,辐射源位置调节机构被配置为调节并锁定辐射本体与安装座的相对位置。辐射源装置和辐射检查设备包括该辐射源装置。本公开的辐射源装置和辐射检查设备利于降低辐射源的工作位置调节难度,提高调节效率,以及利于降低采用该辐射源装置的辐射检查装置的整体重量和成本。