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公开(公告)号：CN119827535A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202411997309.2
申请日：2024-12-31
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 同方威视科技(北京)有限公司 , 清华大学
IPC: G01N23/06 , G01N23/087
Abstract: 一种多能成像系统及方法，多能成像系统包括：多能谱辐射源（10），被配置为产生多种射线辐射中的至少一种，所述多种射线辐射具有不同最大能量的能谱；多能谱探测器（20），能够获得射线辐射的能谱中的多种能量成分中的至少一种；和处理器（30），与所述多能谱辐射源（10）和所述多能谱探测器（20）信号连接，被配置为获得穿过被检对象的所述多种射线辐射和所述多种能量成分之间的至少两种配合方式的能谱图像数据。
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公开(公告)号：CN114155990A
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202111661887.5
申请日：2021-12-30
Applicant: 同方威视科技(北京)有限公司 , 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本公开提供了一种辐射源装置和辐射检查设备。辐射源装置包括：辐射本体，包括具有多个辐射部的辐射源和与辐射源连接且罩于辐射源外的屏蔽罩，屏蔽罩具有用于辐射源输出射束的射束出射部；安装座，被配置为承载辐射本体；和辐射源位置调节机构，连接于屏蔽罩和安装座之间，辐射源位置调节机构被配置为调节并锁定辐射本体与安装座的相对位置。辐射源装置和辐射检查设备包括该辐射源装置。本公开的辐射源装置和辐射检查设备利于降低辐射源的工作位置调节难度，提高调节效率，以及利于降低采用该辐射源装置的辐射检查装置的整体重量和成本。
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公开(公告)号：CN216749331U
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202123419275.3
申请日：2021-12-30
Applicant: 同方威视科技(北京)有限公司 , 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本公开提供了一种辐射源装置和辐射检查设备。辐射源装置包括：辐射本体，包括具有多个辐射部的辐射源和与辐射源连接且罩于辐射源外的屏蔽罩，屏蔽罩具有用于辐射源输出射束的射束出射部；安装座，被配置为承载辐射本体；和辐射源位置调节机构，连接于屏蔽罩和安装座之间，辐射源位置调节机构被配置为调节并锁定辐射本体与安装座的相对位置。辐射源装置和辐射检查设备包括该辐射源装置。本公开的辐射源装置和辐射检查设备利于降低辐射源的工作位置调节难度，提高调节效率，以及利于降低采用该辐射源装置的辐射检查装置的整体重量和成本。
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公开(公告)号：CN113281357B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202110781545.0
申请日：2021-07-12
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G01N23/04
Abstract: 本公开提出一种辐射成像系统和方法，涉及辐射探测技术领域。本公开的一种辐射成像系统包括：光电二极管探测器，被配置为接收来自射线源的射线，并生成第一探测信号；第一成像设备，与光电二极管探测器连接，被配置为根据第一探测信号生成第一成像数据；计数探测器，位于光电二极管探测器的远离射线接收面的一侧，被配置为接收穿过光电二极管探测器的射线，生成第二探测信号；计数成像设备，与计数探测器连接，被配置为根据第二探测信号生成计数成像数据；和图像融合装置，被配置为根据第一成像数据和计数成像数据，获取第一融合图像，提高辐射探测质量。
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公开(公告)号：CN113281357A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110781545.0
申请日：2021-07-12
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G01N23/04
Abstract: 本公开提出一种辐射成像系统和方法，涉及辐射探测技术领域。本公开的一种辐射成像系统包括：光电二极管探测器，被配置为接收来自射线源的射线，并生成第一探测信号；第一成像设备，与光电二极管探测器连接，被配置为根据第一探测信号生成第一成像数据；计数探测器，位于光电二极管探测器的远离射线接收面的一侧，被配置为接收穿过光电二极管探测器的射线，生成第二探测信号；计数成像设备，与计数探测器连接，被配置为根据第二探测信号生成计数成像数据；和图像融合装置，被配置为根据第一成像数据和计数成像数据，获取第一融合图像，提高辐射探测质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119743683A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411958219.2
申请日：2024-12-27
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种飞点成像装置图像校正方法，涉及安全检测领域，用以提高飞点成像装置的成像质量。方法包括以下步骤：根据飞点成像装置的飞轮的第一振幅计算校正参数；判断校正参数是否大于第一预设参数；如果校正参数大于第一预设参数，则对飞点成像装置扫描得到的图像进行校正。上述技术方案，可以对飞点成像装置扫描获得的图像进行校正，以保证成像质量。
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公开(公告)号：CN118447067A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410584982.7
申请日：2024-05-11
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G06T7/50 , G06T7/13 , G06T3/4038 , G06T7/11
Abstract: 本公开提出了一种图像处理方法、装置和透射扫描系统，涉及辐射成像技术领域。其中，图像处理方法包括：对透射图像进行抽样处理，以得到待处理图像，所述透射图像为利用多列探测器，对物体进行透射扫描时的透射强度进行检测得到；从所述待处理图像中确定待识别区域；利用候选深度，对所述待识别区域进行重建处理，以得到所述待识别区域的重建结果；确定所述重建结果的边缘清晰度；在所述边缘清晰度大于清晰度阈值的情况下，将所述候选深度作为所述待识别区域的深度。通过以上方法，能够在无需对探测器结构做调整的情况下，得到物体的深度信息，有助于提高物体检查的效率和识别效果。
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公开(公告)号：CN114798488A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210413249.X
申请日：2022-04-19
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 同方威视科技江苏有限公司
Abstract: 本公开提供了一种物料分选系统及分选方法。物料分选系统包括：布料装置，用于输送物料；识别装置，包括X射线探测模块和三维图像获取模块，X射线探测模块用于获取布料装置上物料的第一图像，三维图像获取模块用于获取布料装置上物料的第二图像；控制装置，用于基于第一图像获得物料的物料品类；用于基于第一图像和第二图像获得物料的质心；以及基于物料的质心获得物料到达分选装置对应的喷吹位置的时间；分选装置，位于所述布料装置的下游，用于对到达所述喷吹位置的所述物料的质心进行喷吹实现物料分选；以及接料装置，用于容置分选后的物料。
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公开(公告)号：CN119259504A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411629953.4
申请日：2024-11-14
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
Inventor： 陈志强 , 李元景 , 张丽 , 宗春光 , 周合军 , 张植俊 , 刘必成 , 党永乐 , 张俊斌 , 徐晓莹 , 刘家良 , 王振严 , 韩文学 , 卞振华 , 徐斌 , 朱道瑶 , 韩凯锋 , 黄新闯
Abstract: 提供了一种物料分选方法，具体包括：获取待分选物料的X射线图像以及三维图像；基于所述X射线图像以及所述三维图像中的至少一个，识别各物料的物料状态，其中，所述物料状态包括非粘连状态和粘连状态，所述粘连状态包括与其余至少一个物料相接触的状态；对于所述X射线图像以及所述三维图像，若已执行物料状态识别则基于所述各物料的物料状态进行图像分割，若未执行物料状态识别则直接对所述各物料进行图像分割；基于所述各物料的物料状态，将经图像分割的所述X射线图像中的各物料分别与经图像分割的所述三维图像中的对应物料相匹配；根据所述X射线图像以及所述三维图像之间的物料匹配结果进行物料分选。还提供了一种物料分选装置。
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公开(公告)号：CN118758980A
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202410785279.2
申请日：2021-07-12
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G01N23/04
Abstract: 本公开提出一种辐射成像系统和方法，涉及辐射探测技术领域。本公开的一种辐射成像系统包括：光电二极管探测器，被配置为接收来自射线源的射线，并生成第一探测信号；第一成像设备，与光电二极管探测器连接，被配置为根据第一探测信号生成第一成像数据；计数探测器，位于光电二极管探测器的远离射线接收面的一侧，被配置为接收穿过光电二极管探测器的射线，生成第二探测信号；计数成像设备，与计数探测器连接，被配置为根据第二探测信号生成计数成像数据；和图像融合装置，被配置为根据第一成像数据和计数成像数据，获取第一融合图像，提高辐射探测质量。
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