Utility Model
- Patent Title: 光耦继电器
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Application No.: CN202320668755.3Application Date: 2023-03-30
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Publication No.: CN219718208UPublication Date: 2023-09-19
- Inventor: 李秉纬 , 张亮 , 黄斌 , 陈凯
- Applicant: 无锡前诺德半导体有限公司
- Applicant Address: 江苏省无锡市无锡经济开发区太湖街道震泽路688号1号楼1101
- Assignee: 无锡前诺德半导体有限公司
- Current Assignee: 无锡前诺德半导体有限公司
- Current Assignee Address: 江苏省无锡市无锡经济开发区太湖街道震泽路688号1号楼1101
- Agency: 上海浦一知识产权代理有限公司
- Agent 崔莹
- Main IPC: H03K17/78
- IPC: H03K17/78 ; H03K17/51

Abstract:
本实用新型提供了一种光耦继电器,包括:芯片基底、阵列式排布的多个光耦继电模块和MEMS外壳,MEMS外壳设于芯片基底上且将所有的光耦继电模块罩住,光耦继电模块包括:发光单元、感光单元、驱动单元和开关单元。本申请将所有的光耦继电模块均集成于芯片基底的同一平面上,使用基于SOI的BCD工艺制作,各光耦继电模块中,发光单元直接集成在感光单元侧,所以不需要使用高透光率胶体作为器件支撑,本申请取消了高透光率胶体使用,简化了工艺流程,提高了光通比率。进一步的,本申请通过在所有的光耦继电模块上方设置高反射的MEMS外壳以使用反射方式增强感光单元的获得光强,解决了光耦继电模块之间的光线隔离问题。
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IPC分类: