本实用新型公开了一种用于镓‑镍合金靶制备的电镀装置。本实用新型装置包括电镀槽；搅拌单元，包括伺服电机、电机传动轴、导电滑环和同轴器，导电滑环包括导电滑环本体和导电滑环内轴，导电滑环本体上设阳极导线和阴极导线；阳极单元，包括横向固定阳极的阳极固定板和阳极托板连接轴，阳极与阳极导线连接，阳极固定板在阳极托板连接轴带动下横向可旋转地安装在电镀槽内；阴极单元，包括横向固定有阴极靶件的阴极靶托和靶电极导杆，阴极靶件与阴极导线连接，阴极靶托包括阴极靶托本体，阴极靶托本体在靶电极导杆带动下横向可旋转地安装在电镀槽内。本实用新型装置可实现非圆形及大面积Ga‑Ni合金靶的制备，保证电场均匀性，以制备Ga含量更高的Ga‑Ni合金靶。