一种射频四级场加速腔体的表面处理方法

    公开(公告)号:CN113215579B

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202110264806.1

    申请日:2021-03-11

    IPC分类号: C23G1/02 C23C22/48

    摘要: 本发明公开了一种射频四级场加速腔体的表面处理方法。该方法包括:1)弱酸清洗待处理腔体后用高压纯水冲洗;2)弱酸钝化步骤1)处理后的腔体后用高压纯水冲洗。本发明摒弃使用铬酸等有害酸液,通过多个步骤(如选用弱酸清洗钝化并进行高压纯水冲洗)精确控制抛光速率以及彻底去除表面残留化学液等,利用该方法清洗后表面无油污和氧化层存在,清洗效果好,镜面效果明显,且没有出现晶粒析出现象,具有较高的实用价值。

    超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统及方法

    公开(公告)号:CN107699899B

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN201711006578.8

    申请日:2017-10-25

    IPC分类号: H10N60/01

    摘要: 本发明涉及离子加速器超导腔加工技术领域,尤其是涉及一种超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统及方法。其特点是包括混酸槽,混酸槽上端通过管路与制冷机组相连,混酸槽内设置有热交换器,混酸槽下端通过管路与酸液输送泵相连,酸液输送泵通过管路与过滤器相连,过滤器通过管路与超导腔下端和超纯水水泵相连,超纯水水泵通过管路与超纯水水箱相连,超导腔上端通过管路分别与混酸槽上端和观察窗相连,高纯氮气罐通过管路与混酸槽与超导腔之间的管路相连;其通过采用计算机对酸液的流量、流速、温度、压力和时间进行严格控制,可以实现多型号超导腔的化学缓冲抛光。而且具有很强的抗腐蚀性、高度的安全性、可靠性、可控性和易操作性。

    一种分体式超导谐振腔及其制备方法

    公开(公告)号:CN115551167A

    公开(公告)日:2022-12-30

    申请号:CN202211083112.9

    申请日:2022-09-06

    IPC分类号: H05H7/18

    摘要: 本发明涉及一种分体式超导谐振腔及其制备方法。分体式超导谐振腔的使用环境为共真空恒温器或单独的密闭真空壳内。所述超导腔的每部分分开加工,同样尺寸的超导腔所需原材料铌的尺寸小,原材料价格更低且有可能可采用单晶铌材;因为缝隙和表面电流方向一致,且缝隙处电磁场指数级衰减,故基本不会有什么损耗,所以不必在焊接时将所有的缝隙完美的填满,各部分的焊接要求低,甚至可以不用焊接仅通过机械连接,降低焊接成本;在化学抛光、退火、及镀膜加工时,分体腔每部分分开做处理,由于不是密闭的腔体,大大降低了这些处理工艺的难度。尤其是对于内壁镀膜,分体腔每部分直接打开,内壁直接暴露在外,故不必特意使用伸入腔内的靶,大大降低了镀膜的难度。

    一种铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔及其制备方法

    公开(公告)号:CN113373404B

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202110647650.5

    申请日:2021-06-10

    摘要: 本发明公开了一种铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔及其制备方法,属于超导技术领域。本发明的铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔的制备方法,包括如下步骤:(1)采用锡蒸汽扩散法由纯铌超导腔制备铌基Nb3Sn薄膜超导腔;(2)在所述铌基Nb3Sn薄膜超导腔外表面沉积铜层;(3)在沉积了铜层的铌基Nb3Sn薄膜超导腔外表面电镀无氧铜,即得到所述铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔。该方法通过在铌基Nb3Sn薄膜超导腔外表面以电镀无氧铜的方式制备得到铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔,成功避免了铜熔点低无法生成高质量Nb3Sn薄膜的缺点;且电镀的无氧铜致密度高、孔隙率低、热反应小。

    用于椭球型超导腔电化学抛光的电极及其安装方法

    公开(公告)号:CN114855258A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210518708.0

    申请日:2022-05-13

    IPC分类号: C25F3/16 C25F7/00

    摘要: 本发明涉及一种用于椭球型超导腔电化学抛光的电极及其安装方法,包括分体式设计的如下各部件:第一抛光电极导电部件和第二抛光电极导电部件,二者均为杆状导电电极,第一抛光电极导电部件和第二抛光电极导电部件的第一端均包覆有抛光电极绝缘部件,且二者的第一端卡接连接;第三抛光电极导电部件,其为轮盘状结构,第三抛光电极导电部件套设在第一抛光电极导电部件的第一端上或第二抛光电极导电部件的第一端上,且连接处未设置抛光电极绝缘部件。该电极结构能够降低超导腔在电化学抛光过程中内表面不同位置的不均性提升抛光的均匀度。

    一种小间隙超导腔内表面高压冲洗设备

    公开(公告)号:CN110328176B

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN201910609127.6

    申请日:2019-07-08

    IPC分类号: B08B3/02

    摘要: 本发明涉及一种小间隙超导腔内表面高压冲洗设备,其特征在于,包括支撑架、上支撑台面、旋转平台、喷杆、平台驱动装置、喷杆驱动装置、高压隔膜泵和控制系统;支撑架的顶部固定连接上支撑台面,上支撑台面的顶部设置有旋转平台;支撑架和上支撑台面的中心均开设有用于喷杆往复运动的第一通孔,旋转平台的中心开设有用于喷杆往复运动的第二通孔,上支撑台面的第一通孔和第二通孔上分别设置有用于定位支撑喷杆的导套,喷杆的顶部设置有喷头,喷杆的底部连接高压隔膜泵;支撑架上设置有平台驱动装置和喷杆驱动装置;高压隔膜泵、平台驱动装置和喷杆驱动装置还分别电连接控制系统,本发明可以广泛应用于加速器制造技术领域中。

    一种铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔及其制备方法

    公开(公告)号:CN113373404A

    公开(公告)日:2021-09-10

    申请号:CN202110647650.5

    申请日:2021-06-10

    摘要: 本发明公开了一种铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔及其制备方法,属于超导技术领域。本发明的铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔的制备方法,包括如下步骤:(1)采用锡蒸汽扩散法由纯铌超导腔制备铌基Nb3Sn薄膜超导腔;(2)在所述铌基Nb3Sn薄膜超导腔外表面沉积铜层;(3)在沉积了铜层的铌基Nb3Sn薄膜超导腔外表面电镀无氧铜,即得到所述铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔。该方法通过在铌基Nb3Sn薄膜超导腔外表面以电镀无氧铜的方式制备得到铜基厚壁Nb3Sn薄膜超导腔,成功避免了铜熔点低无法生成高质量Nb3Sn薄膜的缺点;且电镀的无氧铜致密度高、孔隙率低、热反应小。

    一种射频四级场加速腔体的表面处理方法

    公开(公告)号:CN113215579A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202110264806.1

    申请日:2021-03-11

    IPC分类号: C23G1/02 C23C22/48

    摘要: 本发明公开了一种射频四级场加速腔体的表面处理方法。该方法包括:1)弱酸清洗待处理腔体后用高压纯水冲洗;2)弱酸钝化步骤1)处理后的腔体后用高压纯水冲洗。本发明摒弃使用铬酸等有害酸液,通过多个步骤(如选用弱酸清洗钝化并进行高压纯水冲洗)精确控制抛光速率以及彻底去除表面残留化学液等,利用该方法清洗后表面无油污和氧化层存在,清洗效果好,镜面效果明显,且没有出现晶粒析出现象,具有较高的实用价值。