发明公开
EP0024311A2 Verfahren zum Herstellen eines hochintegrierten Festwertspeichers 失效
一种生产高度集成只读存储器的方法。

Verfahren zum Herstellen eines hochintegrierten Festwertspeichers
摘要:
Es wird ein Herstellungsverfahren für einen hochintegrierten Festwertspeicher aus Feldeffekttransistoren mit einer sehr hohen Zellendichte beschrieben, das es ermöglicht, dass die Personalisierung erst am Ende der Prozessschritte zu erfolgen braucht. Das Herstellungsverfahren eignet sich sowohl zur Herstellung eines Speichers für binäre Werte, als auch für Speicherung mehrwertiger dargestellter Informationen. Die Gateelektrode (28) eines Feldeffekttransistors wird isoliert von und nahe an einer ersten Diffusionsregion. (38) eines Substrats (10) gebildet. Danach werden Verunreinigungen in eine zweite gebildete Diffusionsregion (40), die nahe an der ersten Diffusionsregion (38) angeordnet ist, eingebracht. Die Diffusionskonstante der Verunreinigungen ist signifikant voneinander verschieden, und die Diffusion wird so lange durchgeführt, bis beide Verunreinigungen an den jeweiligen Stellen eine hofartige Region (z.B. 42 und 38) bilden.
信息查询
0/0