发明公开
- 专利标题: Verfahren zum Herstellen eines hochintegrierten Festwertspeichers
- 专利标题(英): Process for producing a high-density integrated read-only memory
- 专利标题(中): 一种生产高度集成只读存储器的方法。
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申请号: EP80104358.9申请日: 1980-07-24
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公开(公告)号: EP0024311A2公开(公告)日: 1981-03-04
- 发明人: Fortino, Andreas Guillermo , Geipel, Henry John jr. , Heller, Lawrence Griffith , Silverman, Ronald
- 申请人: International Business Machines Corporation
- 申请人地址: Old Orchard Road Armonk, N.Y. 10504 US
- 专利权人: International Business Machines Corporation
- 当前专利权人: International Business Machines Corporation
- 当前专利权人地址: Old Orchard Road Armonk, N.Y. 10504 US
- 代理机构: Rudolph, Wolfgang (DE)
- 优先权: US68282 19790820
- 主分类号: H01L21/82
- IPC分类号: H01L21/82 ; G11C17/00 ; H01L27/10 ; H01L29/08
摘要:
Es wird ein Herstellungsverfahren für einen hochintegrierten Festwertspeicher aus Feldeffekttransistoren mit einer sehr hohen Zellendichte beschrieben, das es ermöglicht, dass die Personalisierung erst am Ende der Prozessschritte zu erfolgen braucht. Das Herstellungsverfahren eignet sich sowohl zur Herstellung eines Speichers für binäre Werte, als auch für Speicherung mehrwertiger dargestellter Informationen. Die Gateelektrode (28) eines Feldeffekttransistors wird isoliert von und nahe an einer ersten Diffusionsregion. (38) eines Substrats (10) gebildet. Danach werden Verunreinigungen in eine zweite gebildete Diffusionsregion (40), die nahe an der ersten Diffusionsregion (38) angeordnet ist, eingebracht. Die Diffusionskonstante der Verunreinigungen ist signifikant voneinander verschieden, und die Diffusion wird so lange durchgeführt, bis beide Verunreinigungen an den jeweiligen Stellen eine hofartige Region (z.B. 42 und 38) bilden.
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