发明授权
- 专利标题： Verfahren zur Herstellung von Resiststrukturen
- 专利标题（英）： Method of producing resist patterns
- 专利标题（中）： 生产电阻图案的方法
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申请号： EP81107370.9申请日： 1981-09-17
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公开(公告)号： EP0048899B1公开(公告)日： 1986-08-27
- 发明人: Birkle, Siegfried, Dr. , Rubner, Roland, Dr. , Hauschildt, Hans , Rissel, Eva-Maria
- 申请人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 申请人地址： Wittelsbacherplatz 2 80333 München DE
- 专利权人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人地址： Wittelsbacherplatz 2 80333 München DE
- 优先权： DE3036615 19800929
- 主分类号： G03F7/10
- IPC分类号： G03F7/10
公开/授权文献
- EP0048899A2 Verfahren zur Herstellung von Resiststrukturen 公开/授权日：1982-04-07
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