- 专利标题： Method of manufacturing a semiconductor device
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申请号： EP81305941.7申请日： 1981-12-18
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公开(公告)号： EP0055558B1公开(公告)日： 1986-08-06
- 发明人: Toyokura, Nobuo , Taguchi, Masao
- 申请人： FUJITSU LIMITED
- 申请人地址： 1015, Kamikodanaka, Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa 211 JP
- 专利权人： FUJITSU LIMITED
- 当前专利权人： FUJITSU LIMITED
- 当前专利权人地址： 1015, Kamikodanaka, Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa 211 JP
- 代理机构： Sunderland, James Harry
- 优先权： JP189056/80 19801229
- 主分类号： H01L21/225
- IPC分类号： H01L21/225 ; H01L29/94 ; H01L27/10 ; H01L21/314
公开/授权文献
- EP0055558A2 Method of manufacturing a semiconductor device 公开/授权日：1982-07-07
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