发明授权
- 专利标题： Positive-type photoresist compositions
- 专利标题（中）： 正极型光电组合物
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申请号： EP83303026.5申请日： 1983-05-25
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公开(公告)号： EP0095388B1公开(公告)日： 1987-11-19
- 发明人: Hanabata, Makoto , Furuta, Akihiro , Yasui, Seimei , Tanaka, Kunihiko
- 申请人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 申请人地址： Kitahama 4-chome 5-33 Chuo-ku Osaka 541 JP
- 专利权人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 当前专利权人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 当前专利权人地址： Kitahama 4-chome 5-33 Chuo-ku Osaka 541 JP
- 代理机构： Moore, Anthony John
- 优先权： JP89482/82 19820525
- 主分类号： G03F7/08
- IPC分类号： G03F7/08
公开/授权文献
- EP0095388A2 Positive-type photoresist compositions 公开/授权日：1983-11-30
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