发明授权
- 专利标题： Alkaline solution for developing positive photoresists
- 专利标题（中）： 用于发展积极光电的碱性溶液
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申请号： EP84302254.2申请日： 1984-04-02
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公开(公告)号： EP0124297B1公开(公告)日： 1989-01-11
- 发明人: Niwa, Kenji , Ichikawa, Ichiro
- 申请人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 申请人地址： Kitahama 4-chome 5-33 Chuo-ku Osaka 541 JP
- 专利权人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 当前专利权人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 当前专利权人地址： Kitahama 4-chome 5-33 Chuo-ku Osaka 541 JP
- 代理机构： Diamond, Bryan Clive
- 优先权： JP58386/83 19830401
- 主分类号： G03F7/26
- IPC分类号： G03F7/26
公开/授权文献
- EP0124297B2 Alkaline solution for developing positive photoresists 公开/授权日：1992-10-14
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