发明授权
- 专利标题： Process for high temperature drive-in diffusion of dopants into semiconductor wafers
- 专利标题（中）： 高温驱动剂掺入半导体波长的方法
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申请号： EP84305792.8申请日： 1984-08-23
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公开(公告)号： EP0134716B1公开(公告)日： 1991-03-13
- 发明人: Russo, Carl Joseph
- 申请人： VARIAN ASSOCIATES, INC.
- 申请人地址： 611 Hansen Way Palo Alto, CA 94303 US
- 专利权人： VARIAN ASSOCIATES, INC.
- 当前专利权人： VARIAN ASSOCIATES, INC.
- 当前专利权人地址： 611 Hansen Way Palo Alto, CA 94303 US
- 代理机构： Cline, Roger Ledlie
- 优先权： US527140 19830829
- 主分类号： C30B31/12
- IPC分类号： C30B31/12
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