发明授权
- 专利标题： Lichtempfindliches Gemisch und hiermit hergestelltes Zweikomponenten-Diazotypiematerial
- 专利标题（英）： Light-sensitive composition and two-component diazotype material prepared therefrom
- 专利标题（中）： 光敏组合物和双组分双极性材料制备
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申请号： EP85105849.5申请日： 1985-05-13
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公开(公告)号： EP0161655B1公开(公告)日： 1989-01-04
- 发明人: Scheler, Siegfried, Dr. Dipl.-Chem.
- 申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 申请人地址： 65926 Frankfurt am Main DE
- 专利权人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人地址： 65926 Frankfurt am Main DE
- 优先权： DE3418469 19840518
- 主分类号： G03C1/52
- IPC分类号： G03C1/52 ; G03C1/60 ; G03C1/58
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