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    Verfahren zur Herstellung von substituierten 1,2-Naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsäureestern und deren Verwendung in einem strahlungsempfindlichen Gemisch
    3.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung von substituierten 1,2-Naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsäureestern und deren Verwendung in einem strahlungsempfindlichen Gemisch 失效
    一种用于取代的1,2-萘醌（2） - 重氮-4-磺酸酯的制备及其在辐射敏感混合物的使用过程。

    公开(公告)号：EP0368085A1

    公开(公告)日：1990-05-16

    申请号：EP89119884.8

    申请日：1989-10-26

    申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Siegel, Herbert, Dr. Dipl.-Chem. ,  Scheler, Siegfried, Dr. Dipl.-Chem.

    IPC分类号： C07C309/26 ,  C07C303/28 ,  G03F7/022

    CPC分类号： C07C309/26 ,  C07C309/27 ,  G03F7/022

    摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von 1,2-Naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsäureestern der allge­meinen Formel I
    die in mindestens einer der 5-, 6-, 7- oder 8-Position durch R = Halogen, Alkoxy- oder Alkoxycarbonyl-Gruppen substituiert sind, und bei denen X eine Arylgruppe bedeutet. Die Herstellung erfolgt durch die Kombination folgender Verfahrensschritte, indem man

    a) entsprechend substituiertes ß-Naphthol nitrosiert,
    b) mit Alkalihydrogensulfit und Säure in 4-Position sulfoniert und reduziert,
    c) das Naphthalinsulfonsäurederivat oxidiert,
    d) die gebildete 1,2-Naphthochinon-4-sulfonsäure mit Toluolsulfonsäurehydrazid in organischem Lösungsmittel bei Temperaturen von 20 bis 100 °C umsetzt,
    e) die Naphthochinon-diazidverbindung mit Chlorsulfon­säure bzw. Chlorsulfonsäure/Thionylchlorid in das Sulfochlorid umwandelt und dieses
    f) abschließend mit einer phenolischen Komponente kon­densiert, wobei eine Reinigung des jeweiligen Zwischenpro­dukts durch Umfällen oder Umkristallisation entfällt.

    Das Verfahren gestattet eine einfache technische Durchführung bei guter Ausbeute. Die hergestellten Verbindungen, insbeson­dere die durch 6-Alkoxycarbonylgruppen substituierten 1,2-­Naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsäureester, werden als strah­lungsempfindliche Komponente in strahlungsempfindlichen Ge­mischen verwendet.

    摘要翻译： 本发明涉及一种制备1,2-萘醌（2）通式 - 重氮-4-磺酸酯我由R = <映像>在5-，6-，7-或8-位中的至少一个 卤素，烷氧基或烷氧羰基取代，并且其中X表示芳基。 它们是通过由亚硝化一个）适当取代的β-萘酚，b）用碱金属亚硫酸氢盐和酸磺化过程步骤的以下组合中4位制备和降低，C）氧化Naphthalinsulfonsäurederivat，d）中形成的1,2-萘 与在用氯磺酸或氯磺酸/亚硫酰氯的重氮萘醌化合物转化成磺酰氯20的温度至100℃，e）在有机溶剂中甲苯磺酸酰肼-4-磺酸和此，f）最后缩合酚类组分，用清洁 各个中间的通过再沉淀或重结晶删除。 该方法允许以高收率简单的技术实现。 的化合物制备，特别是通过将6-烷氧基羰基取代的1,2-萘醌（2） - 重氮-4-磺酸酯，在辐射敏感混合物用作辐射敏感组分。

    Substituierte 1,2-Naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsäuren, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
    4.
    发明公开
    Substituierte 1,2-Naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsäuren, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung 失效
    取代的1,2-萘醌（2） - 重氮-4-磺酸，它们的制备方法和它们的使用过程中。

    公开(公告)号：EP0413200A1

    公开(公告)日：1991-02-20

    申请号：EP90114801.5

    申请日：1990-08-02

    申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Scheler, Siegfried, Dr. Dipl.-Chem. ,  Buhr, Gerhard, Dr. Dipl.-Chem. ,  Bergmann, Klaus

    IPC分类号： C07C309/26 ,  C07C309/50 ,  C07C309/52 ,  C07C303/28 ,  G03F7/022

    CPC分类号： C07C309/26 ,  G03F7/022

    摘要： Die Erfindung betrifft substituierte 1,2-Naphthochinon-­(2)-diazid-4-sulfonsäuren der allgemeinen Formel A
    in der
    R eine Alkyl, Epoxyalkyl-, Alkylcarbonyl- oder Alkylsulfonylgruppe, deren Kohlenstoffketten durch Sauerstoffatome unterbrochen sein können, eine gegebenenfalls substituierte Aralkyl-, Arylcarbonyl- oder Arylsulfonylgruppe und
    X Wasserstoff, Metall oder eine Ammoniumgruppe bedeuten.
    Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zu ihrer Her­stellung. Die Verbindungen können als solche oder was bevorzugt ist, nach Kondensation ihrer Sulfonsäurechlo­ride mit aromatischen Hydroxyverbindungen oder Aminen zu den entsprechenden Estern oder Amiden, als lichtemp­findliche Verbindungen in strahlungsempfindlichen Gemischen bzw. Materialien eingesetzt werden.

    摘要翻译： 本发明涉及substituiertem 1,2-萘-2 - 通式A的diazido- 4-磺酸... ...其中烷基...... R表示上，环氧烷基，烷基羰基或烷基磺酰基，其碳链可以被中断 由氧原子，或表示氢在OPTIONALLY substituiertem芳烷基，芳基羰基或芳基磺酰基，和... X表示，金属或铵基团。 ...... 因此，本发明涉及一种方法，其制备方法。 该化合物可以被使用，如搜索或优选它们与芳族羟基化合物或cardamines磺酰氯，得到相应的酯或酰胺的缩合后，如在辐射敏感混合物或材料的感光化合物。

    Lichtempfindliches Gemisch und hiermit hergestelltes Zweikomponenten-Diazotypiematerial
    6.
    发明公开
    Lichtempfindliches Gemisch und hiermit hergestelltes Zweikomponenten-Diazotypiematerial 失效
    Lichtempfindliches Gemisch und Hiermit hergestelltes Zweikomponenten-Diazotypiematerial。

    公开(公告)号：EP0161655A2

    公开(公告)日：1985-11-21

    申请号：EP85105849.5

    申请日：1985-05-13

    申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Scheler, Siegfried, Dr. Dipl.-Chem.

    IPC分类号： G03C1/52 ,  G03C1/60 ,  G03C1/58

    CPC分类号： G03C1/58 ,  G03C1/52 ,  G03C1/60

    摘要： Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Gemisch aus Diazoniumsalz, Kuppler, Harzbindemittel, Stabilisator, üblichen Zusätzen und flüßiger Phase aus einer Kombination von

    a) mindestens einem p-Aminobenzoldiazonium-hexafluophosphat als Diazoniumsalz,
    b) mindestens einem Dihydroxy-diphenylsulfid, gegebenenfalls im Gemisch mit weiterem Kuppler,
    c) saurem Stabilisator in einer Konzentration von Null bis 20 Gewichtsprozent, bezogen auf das eingesetzte Diazoniumsalz,
    d) mindestens einem saure Gruppen aufweisenden Kunststoff mit einer Säurezahl von mindestens 100, der sich vom Maleinsäure- oder Phthalsäuretyp ableitet, als Harzbindemittel und
    e) niederen Alkoholen, Glykolethern, Ketonen und Wasser allein oder im Gemisch als flüßige Phase sowie hiermit hergestelltes Zweikomponenten-Diazotypiematerial mit einer lichtempfindlichen Schicht aus den Bestandteilen a) bis d).

    摘要翻译： 1.由重氮盐，成色剂，树脂粘合剂，稳定剂，常规添加剂和液相组成的感光性混合物，其包含a）至少一种对氨基苯二氮六氟磷酸盐的组合，b）至少 一种4,4-二羟基 - 二苯基硫醚，如果适合，作为与另一种成色剂的混合物，c）相对于所用的重氮盐，浓度为0至20重量％的酸稳定剂，d）至少一种塑料 其含有酸基，酸值至少为100，源自马来酸或邻苯二甲酸类，作为树脂粘合剂，和e）低级醇，二醇醚，酮水或这些溶剂的混合物。

    Neue, strahlungsempfindliche Verbindungen, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch und Aufzeichnungsmaterial
    9.
    发明公开
    Neue, strahlungsempfindliche Verbindungen, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch und Aufzeichnungsmaterial 失效
    新辐射敏感的化合物，在此产生的辐射敏感混合物和记录材料。

    公开(公告)号：EP0369219A1

    公开(公告)日：1990-05-23

    申请号：EP89119883.0

    申请日：1989-10-26

    申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Scheler, Siegfried, Dr. Dipl.-Chem. ,  Buhr, Gerhard, Dr. Dipl.-Chem. ,  Lenz, Helmut, Dipl.-Ing. ,  Bergmann, Klaus ,  Siegel, Herbert, Dr. Dipl.-Chem.

    IPC分类号： G03F7/022 ,  C07C309/26

    CPC分类号： G03F7/022 ,  C07C309/26 ,  C07C2601/16

    摘要： Die Erfindung betrifft neue strahlungsempfindliche Verbindungen, die Ester oder Amide einer 1,2-Naphthochinon-(2)-diazid-4-sulfonsäure der allgemeinen Formel
    darstellen, worin

    R 1 und R 2 gleich oder verschieden sind und Wasserstoff, eine Alkyl-, Alkylether- oder Alkylthioethergruppe, deren Kohlenstoffketten durch Ethersauerstoffatome unterbrochen sein können, eine Acylamino-, Carbonsäureester-, Sulfonsäureester- oder Sulfonamidgruppe bedeuten, wobei
    R 1 und R 2 nicht gleichzeitig Wasserstoff sind.

    Die Verbindungen werden als strahlungsempfindliche Komponente in strahlungsempfindlichen Gemischen verwendet, mit denen entsprechende Aufzeichnungsmaterialien hergestellt werden können. Die Verbindungen haben eine nach längeren Wellenlängen gerichtete Absorption in Anpassung an den Emissionsbereich handelsüblicher Strahlungsquellen. Sie gestatten auch in sicherer und praktischer Weise die Durchführung von negativ arbeitenden Bildumkehrprozessen.

    摘要翻译： 本发明涉及作为1,2-萘醌（2）通式 - 重氮基-4-磺酸的酯或酰胺新型辐射敏感的化合物其中R1和R2是相同的或不同的并且是氢，烷基， 硫醚基，其碳链可以是指一个酰氨基，羧酸酯，磺酸酯或磺酰胺烷基醚或烷基通过醚氧原子，其中R1和R2不同时为氢而中断。 这些化合物，其中相应的记录材料，可以制备辐射敏感混合物用作辐射敏感组分。 化合物在适应向外较长波长吸收的可商购的辐射源发射范围。 它们还允许安全和实用的方法负的工作形象逆转流程的实施。