发明公开
- 专利标题: Procédé et dispositif pour la manipulation de plaquettes circulaires en vue de leur immatriculation par rayons laser
- 专利标题(英): Process and appliance for the handling of circular plates, for their registration by a laser beam
- 专利标题(中): 用于通过激光束的圆盘的操作,以他们的登记的方法和装置。
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申请号: EP85401191.3申请日: 1985-06-14
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公开(公告)号: EP0165871A1公开(公告)日: 1985-12-27
- 发明人: Cavazza, Gilbert
- 申请人: SULZER ELECTRO-TECHNIQUE S.E.T. Société Anonyme dite:
- 申请人地址: Avenue de la Tour de Fer F-74490 Saint-Jeoire FR
- 专利权人: SULZER ELECTRO-TECHNIQUE S.E.T. Société Anonyme dite:
- 当前专利权人: SULZER ELECTRO-TECHNIQUE S.E.T. Société Anonyme dite:
- 当前专利权人地址: Avenue de la Tour de Fer F-74490 Saint-Jeoire FR
- 代理机构: Bonnetat, Christian
- 优先权: FR8409517 19840618
- 主分类号: B23K37/04
- IPC分类号: B23K37/04 ; H05K13/00
摘要:
L'invention concerne le marquage au rayon laser de plaquettes circulaires.
Selon l'invention, on procède à une manipulation automatique de plaquettes circulaires (5,5') qui sont alignées l'une derrière l'autre dans des plans verticaux parallèles et maintenus dans des logements prévus sur un support tel qu'un panier ; le support est amené à un poste de travail comportant des moyens de calage en position déterminée et tels que les plans parallèles des plaquettes alignées verticalement soient perpendiculaires à l'axe de projection du rayon de marquage tel qu'un rayon laser (7) ; les plaquettes sont déplacées successivement par un élèvateur (6) entre une position frontale et située dans le champ du rayon de marquage et une position dégagée par rapport au rayon entre chaque marquage individuel, l'ensemble du support ( 9 ) comportant les plaquettes alignées et parallèles (5,5') est avancé d'un pas (correspondant à l'écartement) entre deux plaquettes) en direction de la source d'émission du rayon. L'invention concerne l'appareil pour la mise en oeuvre de ce procédé.
Application au marquage an rayon laser de plaquettes de silicium destinées à la fabrication de semi-conducteurs.
Selon l'invention, on procède à une manipulation automatique de plaquettes circulaires (5,5') qui sont alignées l'une derrière l'autre dans des plans verticaux parallèles et maintenus dans des logements prévus sur un support tel qu'un panier ; le support est amené à un poste de travail comportant des moyens de calage en position déterminée et tels que les plans parallèles des plaquettes alignées verticalement soient perpendiculaires à l'axe de projection du rayon de marquage tel qu'un rayon laser (7) ; les plaquettes sont déplacées successivement par un élèvateur (6) entre une position frontale et située dans le champ du rayon de marquage et une position dégagée par rapport au rayon entre chaque marquage individuel, l'ensemble du support ( 9 ) comportant les plaquettes alignées et parallèles (5,5') est avancé d'un pas (correspondant à l'écartement) entre deux plaquettes) en direction de la source d'émission du rayon. L'invention concerne l'appareil pour la mise en oeuvre de ce procédé.
Application au marquage an rayon laser de plaquettes de silicium destinées à la fabrication de semi-conducteurs.
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